[发明专利]层叠体

权利要求书

1.一种层叠体，其在有机半导体膜的表面至少依次具有水溶性树脂膜及包含化学增幅型感光性树脂组合物的抗蚀剂膜，其中，

所述化学增幅型感光性树脂组合物含有在波长365nm下曝光100mJ/cm²以上时分解80摩尔％以上的光产酸剂，曝光部因难溶于包含有机溶剂的显影液而能够形成掩模图案，且在形成掩模图案后用作蚀刻的掩模。

2.根据权利要求1所述的层叠体，其中，所述蚀刻为干式蚀刻。

3.根据权利要求1所述的层叠体，其中，所述蚀刻为湿式蚀刻。

4.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述水溶性树脂膜的水溶性树脂的sp值为18(MPa)^1/2以上且小于29(MPa)^1/2，所述sp值是指溶解参数。

5.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述水溶性树脂膜的水溶性树脂的sp值为20(MPa)^1/2以上且26(MPa)^1/2以下，所述sp值是指溶解参数。

6.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述水溶性树脂膜的水溶性树脂为聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、或聚乙烯醇与聚乙烯吡咯烷酮的混合物。

7.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述水溶性树脂膜的水溶性树脂为聚乙烯吡咯烷酮。

8.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述化学增幅型感光性树脂组合物通过在波长365nm下曝光100mJ/cm²以上而其极性发生变化，且对于sp值小于18(MPa)^1/2的有机溶剂变得难溶，所述sp值是指溶解参数。

9.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述化学增幅型感光性树脂组合物包含具有环状醚酯结构的树脂。

10.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述化学增幅型感光性树脂组合物包含具有重复单元的树脂，所述重复单元包含由下述通式(11)表示的基团，

式(11)

式(11)中，R¹表示氢原子或烷基，L¹表示羰基或亚苯基，R²¹～R²⁷分别独立地表示氢原子或烷基。

11.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述化学增幅型感光性树脂组合物包含具有由下述通式(B¹-1)表示的重复单元的树脂，

通式(B¹-1)

通式(B¹-1)中，R¹表示氢原子、烷基、氰基或卤素原子；R²～R⁴分别独立地表示烷基；R²～R⁴中的2个可键结而形成环状的烷基。

12.根据权利要求1或2所述的层叠体，其中，所述化学增幅型感光性树脂组合物包含具有由下述通式(B¹-2)表示的重复单元的树脂，

通式(B¹-2)

通式(B¹-2)中，R¹表示氢原子、烷基、氰基或卤素原子；R²～R⁴分别独立地表示烷基；R²～R⁴中的2个可键结而形成环状的烷基；R⁵表示2价的链状烃基。