[发明专利]具有冷却真空密闭体的热壁反应器

说明书

于此提供用于处理基板的方法及设备。在一些实施方式中，用于处理基板的设备包含室主体，该室主体封闭处理空间，该室主体包括室地板、与该室地板耦合的室壁、及与该室壁可移除地耦合的室盖，其中该室地板、该室壁及该室盖的至少一者包括用于热控制介质的流动的通路；加热板，该加热板与该室地板相邻且间隔开来设置；套管，该套管与该室壁相邻且间隔开来设置，该套管由该加热板而受支持；及第一密封性元件，该第一密封性元件在该室壁及该室盖间的第一界面处设置。

领域

本发明的实施方式一般涉及基板处理仪器。

背景

基板处理系统，例如等离子体反应器，可用于在处理室内受支持的基板上沉积、蚀刻、或形成层。一些处理系统可包含提供真空边界及热内壁的室。真空边界通常包含在室的组件部件间的密封性元件，以利于形成真空紧密的密封。发明人观察来自热壁的热可负面地冲击使用的密封的效能。

因此，发明人于此提供基板处理室及室组件的实施方式，所述室组件可提供密封改进的效能或其他如下述的益处。

概述

于此提供用于处理基板的方法及设备。在一些实施方式中，用于处理基板的设备包含室主体，该室主体封闭处理空间，该室主体包括室地板、与该室地板耦合的室壁、及与该室壁可移除地耦合的室盖，其中该室地板、该室壁及该室盖的至少一者包括用于热控制介质的流动的通路；加热板，该加热板与该室地板相邻且间隔开来设置；套管，该套管与该室壁相邻且间隔开来设置，该套管藉由该加热板而受支持；及第一密封性元件，该第一密封性元件在该室壁及该室盖间的第一界面处设置。

在一些实施方式中，提供套管。在一些实施方式中，该套管包含室衬垫，该室衬垫包括下管道，该下管道由内壁、外壁、上壁、及下壁来界定边界；及泵送环，该泵送环包括由网状物而结合的上凸缘及下凸缘，该网状物包括多个开口；其中该上凸缘由该上壁而受支持，且该下凸缘由该内壁的上端而受支持，使得该泵送环、该外壁、及该上壁形成上管道的边界。

以下描述本发明的其他及进一步的实施方式。

附图简要说明

本发明的实施方式，简短总结于上及讨论大量细节于下，可通过参考描述于附图中的本发明的图示实施方式而理解。然而应注意，所附附图仅图示本发明的典型实施方式，因而不考虑限制其范围，本发明可允许其他同等有效的实施方式。

图1描述根据本发明的实施方式的基板处理设备的侧面示意视图。

图2描述根据本发明的实施方式的反应器的一部分的简化横截面视图。

图3描述图2的反应器的一部分的部分横截面示意视图。

为了利于理解，在可能之处使用相同标号，以标示对附图常见的相同元件。附图并非按比例绘制且可简化以阐明。思量一个实施方式的元件及特征可有益地并入其他实施方式中而无须进一步的叙述。

具体描述

于此公开用于处理基板的方法及设备。发明的设备通过提供用于工艺气体及副产物的可移除式流体路径，可有利地加强用于处理基板的热壁反应器的效能。发明的设备也可加强在热壁反应器中的密封性元件的效能。

图1描述根据本发明的一些实施方式的热壁反应器，反应器100(例如，基板处理室)，的侧面示意视图。反应器100可为任何适于实施一个或更多个基板处理的反应器，举例但不限于沉积处理，例如化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)、诸如此类。反应器可为独立操作的反应器或群集工具的一部分，例如下列其中一者：或加州Santa Clara的Applied Materials公司所供应的群集工具。