[发明专利]半导体发光元件在审

专利信息
申请号: 201480047832.7 申请日: 2014-08-06
公开(公告)号: CN105518880A 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 杉山彻;月原政志;三好晃平;南部纱织 申请(专利权)人: 优志旺电机株式会社
主分类号: H01L33/38 分类号: H01L33/38;H01L33/32
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 半导体 发光 元件
【权利要求书】:

1.一种半导体发光元件,在支承基板上具有n型半导体层、p型半导 体层、形成在上述n型半导体层以及上述p型半导体层之间的发光层,所述 半导体发光元件的特征在于,具备:

n侧电极,形成为底面与上述n型半导体层的上表面接触;

反射电极,上表面与上述p型半导体层的底面接触,并形成在包含上 述n侧电极形成部位的正下位置的区域;以及

第1绝缘层,在上述n侧电极形成部位的正下位置,形成为上表面与上 述反射电极的底面接触。

2.如权利要求1所述的半导体发光元件,其特征在于,

上述反射电极的上表面的全部与上述p型半导体层的底面接触。

3.如权利要求1所述的半导体发光元件,其特征在于,

在上述n侧电极形成部位的正下位置具备形成在由上述反射电极和上 述p型半导体层夹着的位置的第2绝缘层,

上述第2绝缘层与位于该第2绝缘层的正上的上述n侧电极相比,在与 上述支承基板的基板面平行的方向上宽度窄。

4.如权利要求3所述的半导体发光元件,其特征在于,

上述反射电极在上表面除了形成有上述第2绝缘层的区域,上表面的 全部均与上述p型半导体层的底面接触。

5.如权利要求1-4中任意一项所述的半导体发光元件,其特征在 于,

上述n型半导体层、上述p型半导体层以及上述发光层均由氮化物半导 体层形成。

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