[发明专利]染料系偏振元件或染料系偏振片

权利要求书

1.一种偏振元件，其是由含有至少一种偶氮化合物的进行了拉伸处理的聚乙烯醇系树脂膜构成的偏振元件，其特征在于，该膜中含有的胺化合物的含量为70ppm以下。

2.如权利要求1所述的偏振元件，其特征在于，胺化合物具有羟基。

3.如权利要求1或2所述的偏振元件，其特征在于，所述聚乙烯醇系树脂膜进行了3倍～7倍的拉伸。

4.如权利要求1或2所述的偏振元件，其特征在于，偶氮化合物的至少一种为铜化的偶氮化合物。

5.如权利要求1或2所述的偏振元件，其特征在于，偶氮化合物的至少一种为具有式(1)的结构的铜化的偶氮化合物，

[化1]

式中，A₁表示偶氮基和/或具有取代基的苯基或具有取代基的萘基，R₁表示氢原子、低级烷基、低级烷氧基、磺基、或者具有磺基的低级烷氧基，X₁表示具有或不具有取代基的氨基、具有或不具有取代基的苯甲酰基氨基、具有或不具有取代基的苯基氨基、具有或不具有取代基的苯基偶氮基、或者具有或不具有取代基的萘并三唑基。

6.一种偏振片，其是在权利要求1～5中任一项所述的偏振元件的至少单面上设置透明保护层而形成的。

7.一种偏振透镜，其使用了权利要求1～5中任一项所述的偏振元件或权利要求6所述的偏振片。

8.一种偏振滤光器，其使用了权利要求1～5中任一项所述的偏振元件或权利要求6所述的偏振片。

9.一种偏振太阳镜，其使用了权利要求1～5中任一项所述的偏振元件、权利要求6所述的偏振片、权利要求7所述的偏振透镜或权利要求8所述的偏振滤光器。

10.一种偏振眼镜，其使用了权利要求1～5中任一项所述的偏振元件、权利要求6所述的偏振片、权利要求7所述的偏振透镜或权利要求8所述的偏振滤光器。

11.一种偏振元件的制造方法，其特征在于，使权利要求1～5中任一项所述的偏振元件含水或加湿后，再次进行拉伸或压延加工。

12.一种偏振片的制造方法，其特征在于，使权利要求6所述的偏振片含水或加湿后，再次进行拉伸或压延加工。

13.一种制造偏振元件的方法，其是通过将聚乙烯醇系树脂膜浸渍在含有偶氮化合物的染色液中进行拉伸处理来制造偏振元件的方法，其特征在于，所述染色液中的胺化合物的含量相对于偶氮化合物1000重量份为400重量份以下。