[发明专利]基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置

说明书

本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

技术领域

本发明涉及用于在基板上形成电子器件用图案的基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置。

背景技术

以往，如日本特开平9-219353号公报所示，作为基板处理装置，公知有对设于在平板上移动的移动载台上的基板进行器件图案的曝光的曝光装置。该曝光装置的平板经由具有减振机构的安装部件而支承在基台上。移动载台在设于平板上的可动引导件上沿X方向移动。可动引导件通过设于基台上的两台线性马达而在平板上沿Y方向移动。两台线性马达设在基台的X方向的两侧，以非接触的方式使可动引导件沿Y方向移动。也就是说，各线性马达具有动子和定子，定子固定在基台上，另一方面，动子分别固定在可动引导件的X方向的两侧，动子与定子为非接触状态。上述日本特开平9-219353号公报的曝光装置中，由于线性马达的动子及定子为非接触状态，所以抑制了因外部干扰产生的振动经由可动引导件及移动载台而传递到平板上。

发明内容

在上述特开平9-219353号公报的曝光装置中，通过两台线性马达使可动引导件在平板上沿Y方向移动，同样地，移动载台相对于可动引导件的移动也利用线性马达来进行。该情况下，线性马达也以非接触的方式使移动载台沿X方向移动。但是，由于在平板上使移动载台相对于可动引导件移动，所以因移动载台的移动而产生的振动可能传递到平板。

另外，上述日本特开平9-219353号公报的曝光装置在移动载台上保持基板来进行曝光，但不限于该结构，也存在以连续状态供给膜状的基板并针对供给的基板对器件图案进行扫描曝光的情况。该情况下，在供给基板时，基板可能会振动。

本发明的方案是鉴于上述课题而研发的，其目的在于提供一种能够进一步降低对曝光单元带来的振动、并通过曝光单元良好地进行曝光的基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置。

本发明的第1方案为一种基板处理装置，具有：减振台，其设在设置面上；曝光单元，其设在上述减振台上，且对供给的基板进行曝光处理；和处理单元，其设在上述设置面上且与上述曝光单元以非接触的独立状态设置，并对上述曝光单元进行处理。

本发明的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述处理单元包括对向上述曝光单元供给的上述基板的宽度方向上的位置进行调整的位置调整单元，上述位置调整单元具有：基台，其设在上述设置面上；宽度方向移动机构，其设在上述基台上，且使上述基板相对于上述基台沿上述基板的宽度方向移动；和固定辊，其设在上述基台上，将通过上述宽度方向移动机构进行位置调整后的上述基板朝向上述曝光单元引导，并且，该固定辊相对于上述基台的位置是固定的。

本发明的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，还具有：第1基板检测部，其固定地设在上述基台上，检测供给到上述固定辊的上述基板的宽度方向上的位置；和控制部，其基于上述第1基板检测部的检测结果来控制上述宽度方向移动机构，从而将供给到上述固定辊的上述基板的宽度方向上的位置修正为第1目标位置。

本发明的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述位置调整单元还具有调整上述固定辊相对于上述曝光单元的位置的辊位置调整机构，上述基板处理装置还具有：第2基板检测部，其固定地设在上述减振台上，检测供给到上述曝光单元的上述基板的位置；和控制部，其基于上述第2基板检测部的检测结果来控制上述辊位置调整机构，从而将供给到上述曝光单元的上述基板的位置修正为第2目标位置。