[发明专利]表面处理设备和表面处理方法在审
申请号: | 201480049622.1 | 申请日: | 2014-09-05 |
公开(公告)号: | CN105658841A | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 尹荣秀;池昇炫;李锡熙;李江洙;禹盛弼;孙永辰 | 申请(专利权)人: | 嘉泉大学敎产学协力团 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/52 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨贝贝;臧建明 |
地址: | 韩国京畿道城*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 表面 处理 设备 方法 | ||
1.一种表面处理设备,包括:
反应管,其中提供有反应空间;
加热部分,安置于所述反应管的外部,用于将所述反应管加热到预定温 度;
第一电极和第二电极,其提供于所述反应管的内部以彼此面对以在其间 提供至少一或多种待处理的物品;
电力供应部分,其用于将电力供应到所述第一电极和所述第二电极;以 及
反应气体供应部分,其用于将反应气体供应到所述反应管中。
2.根据权利要求1所述的表面处理设备,其中所述加热部分将所述反应 管加热到室温到500℃的温度。
3.根据权利要求1或2所述的表面处理设备,其中所述第一电极和所述 第二电极以多孔结构形成。
4.根据权利要求3所述的表面处理设备,还包括用于固定所述至少一或 多种待处理的物品的固定装置和连接到所述固定装置以旋转所述至少一或多 种待处理的物品的旋转装置。
5.一种表面处理设备,包括:
反应管,其中提供有反应空间;
加热部分,安置于所述反应管的外部,用于将所述反应管加热到预定温 度;
第一电极和第二电极,其提供于所述反应管的内部以使得任一个围绕另 一个;
绝缘板,其安置于所述第一电极与所述第二电极之间以绝缘且提供空间;
电力供应部分,其用于将电力供应到所述第一电极和所述第二电极;以 及
气体供应部分,其用于将反应气体供应到所述反应管中,
其中待处理的物品容纳于所述第一电极、所述第二电极以及所述绝缘板 中以使得其表面经处理。
6.根据权利要求5所述的表面处理设备,其中所述待处理的物品包括粉 末。
7.根据权利要求6所述的表面处理设备,其中所述第一电极以圆柱形状 提供,且提供所述第二电极以穿过所述第一电极。
8.根据权利要求7所述的表面处理设备,还包括至少形成于所述绝缘板 上且具有小于所述粉末的尺寸的多个孔洞。
9.根据权利要求8所述的表面处理设备,还包括用于旋转所述第一电极 和所述第二电极的旋转部分。
10.一种表面处理方法,包括:
将至少一或多种待处理的物品引入到其中配备有第一电极和第二电极且 其外配备有加热部分的反应管中;
调节所述反应管内部的压力和温度;以及
通过经由将反应气体供应到所述反应管中和将电力供应到所述第一电极 和所述第二电极产生等离子体来处理所述至少一或多种待处理的物品的表 面。
11.根据权利要求10所述的表面处理方法,其中所述第一电极和所述 第二电极经安置以彼此间隔开预定距离,同时彼此面对,且所述至少一或多 种待处理的物品安置于所述第一电极与所述第二电极之间。
12.根据权利要求10所述的表面处理方法,其中所述第一电极以圆柱 形状提供,提供所述第二电极以穿过所述第一电极,且所述至少一或多种待 处理的物品安置于所述第一电极与所述第二电极之间。
13.根据权利要求12所述的表面处理方法,其中配备有多个孔洞的绝 缘板提供于所述第一电极与所述第二电极之间以使得所述第一电极与所述第 二电极之间的温度和压力维持于与所述反应管相同的温度和压力下。
14.根据权利要求13所述的表面处理方法,其中所述第一电极和所述 第二电极沿至少一个方向旋转。
15.根据权利要求11或12所述的表面处理方法,其中所述至少一或多 种待处理的物品的外表面和内表面经处理。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的