[发明专利]使用改进的化学品来去除光致抗蚀剂的方法和设备

权利要求书

1.一种从衬底去除抗蚀剂膜的方法，所述方法包括：

在加工槽中准备液浴，所述液浴包含剥离化学品，在所述剥离化学品 与给定的抗蚀剂层流体接触时，所述剥离化学品降低所述给定的抗蚀剂层 对给定的表面的粘附性；

将具有抗蚀剂膜的衬底置于包含所述剥离化学品的所述液浴中；

充分地物理搅拌所述液浴，使得所述抗蚀剂膜从所述衬底分离并且使 所述抗蚀剂膜机械地破碎成抗蚀剂颗粒，其中少于约10％的所述抗蚀剂 膜溶解在所述液浴中；以及

使所述液浴流出所述加工槽，以使得从所述加工槽去除所述抗蚀剂颗 粒。

2.根据权利要求1所述的方法，其中准备所述液浴包括所述液浴具 有浓度小于约3％的四甲基氢氧化铵(TMAH)。

3.根据权利要求1所述的方法，其中使所述液浴流出所述加工槽包 括使所述液浴循环通过过滤系统并且返回进入所述加工槽。

4.根据权利要求3所述的方法，其中使所述液浴循环通过所述过滤 系统包括所述过滤系统具有第一流动路径和第二流动路径，所述过滤系统 被配置成使得流可在所述第一流动路径与所述第二流动路径之间切换。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述第一流动路径和所述第二 流动路径中的每一个均包括第一过滤器和第二过滤器，其中所述第二过滤 器相对于所述第一过滤器是较细的过滤器。

6.根据权利要求4所述的方法，还包括采用回流操作从给定流动路 径清洗至少一个过滤器。

7.根据权利要求4所述的方法，还包括采用机械刮除操作从给定流 动路径清洗至少一个过滤器。

8.根据权利要求6所述的方法，其中所述回流操作包括使用气压来 使所述液浴的流动反转通过给定的过滤器并且进入相应的排放装置。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述回流操作使用的液浴的体 积小于在所述加工槽和所述过滤系统中的液浴的总体积的约10％。

10.根据权利要求8所述的方法，其中在所述回流操作之后在所述加 工槽中保留的液浴的体积与所述回流操作之前的体积相比大于约90％。

11.根据权利要求8所述的方法，其中使所述液浴循环包括使循环流 保持大于约10升每分钟。

12.根据权利要求11所述的方法，其中使所述液浴循环包括使循环 流保持大于约30升每分钟。

13.根据权利要求8所述的方法，其中使所述液浴循环包括产生所述 液浴的通过所述加工槽的下向流循环路径。

14.根据权利要求1所述的方法，其中准备所述液浴包括准备水溶液。

15.根据权利要求1所述的方法，其中准备所述液浴包括准备基于溶 剂的浴。

16.一种从衬底去除抗蚀剂膜的方法，所述方法包括：

将多个衬底浸没在浴中，所述衬底中的每一个均具有抗蚀剂膜，所述 浴包含使所述抗蚀剂膜对每个衬底的粘附性降低的剥离化学品；

在每个搅拌构件被设置成与所述多个衬底中的给定衬底相邻的情况 下，经由所述搅拌构件的阵列来对所述浴进行物理搅拌，使得所述抗蚀剂 膜从每个衬底分离并且被机械地破碎成抗蚀剂颗粒，其中少于约10％的 所述抗蚀剂膜溶解在所述浴中；

使所述浴和所述抗蚀剂颗粒流出包含有所述浴和所述多个衬底的加 工槽；以及

使所述浴循环通过过滤系统，以使得所述浴离开所述加工槽、穿过所 述过滤系统并且再进入所述加工槽。