[发明专利]带低反射膜的强化玻璃板及其制造方法在审
申请号: | 201480051585.8 | 申请日: | 2014-09-17 |
公开(公告)号: | CN105555729A | 公开(公告)日: | 2016-05-04 |
发明(设计)人: | 神户美花;本谷敏;大谷义美 | 申请(专利权)人: | 旭硝子株式会社 |
主分类号: | C03C17/25 | 分类号: | C03C17/25;C03C3/085;C03C21/00;H01L31/0392;H01L31/048 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡烨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 强化 玻璃板 及其 制造 方法 | ||
1.一种带低反射膜的强化玻璃板,其特征在于,
具有厚度低于2mm的化学强化玻璃板和设置于所述化学强化玻璃板上的低 反射膜,
所述低反射膜是含有二氧化硅粒子和二氧化硅类基质的二氧化硅类多孔质 膜,
所述二氧化硅粒子和所述二氧化硅类基质的SiO2换算固体成分的质量比 (二氧化硅粒子/二氧化硅类基质)在70/30~30/70的范围内,
所述化学强化玻璃板的表面压缩应力在500MPa以上,压缩应力层的厚度在 20μm以上。
2.如权利要求1所述的带低反射膜的强化玻璃板,所述二氧化硅粒子为中 空二氧化硅粒子。
3.如权利要求1所述的带低反射膜的强化玻璃板,所述二氧化硅粒子为实 心二氧化硅粒子。
4.如权利要求1~3中任一项所述的带低反射膜的强化玻璃板,其特征在于, 所述化学强化玻璃板和所述低反射膜直接层叠或者介由底涂层进行层叠。
5.如权利要求1~4中任一项所述的带低反射膜的强化玻璃板,其特征在于, 所述化学强化玻璃板是对由以氧化物基准的摩尔百分比表示,含有62~68%的 SiO2、6~12%的Al2O3、7~13%的MgO、9~17%的Na2O、0~7%的K2O、0~8 %的ZrO2,Na2O以及K2O的含量的总计减去Al2O3的含量而得的差低于10%的 玻璃构成的玻璃板进行化学强化而得的。
6.如权利要求1~5中任一项所述的带低反射膜的强化玻璃板,其特征在于, 在将所述化学强化玻璃板制成厚度1.1mm以下、尺寸150mm以上×150mm以上 的长方形状时,该带低反射膜的强化玻璃板的相对于长边长度的翘曲的尺寸在 1%以下。
7.一种带低反射膜的强化玻璃板的制造方法,它是具有厚度低于2mm的化 学强化玻璃板和设置于所述化学强化玻璃板上的低反射膜的带低反射膜的强 化玻璃板的制造方法,其特征在于,具备
对厚度低于2mm的玻璃板进行化学强化得到化学强化玻璃板的工序,和
将含有液体介质、分散于所述液体介质的二氧化硅粒子和溶解或分散于所 述液体介质的二氧化硅类基质前体的涂布液涂布在所述化学强化玻璃板上形 成涂膜的工序,和
对所述涂膜进行烧成、形成低反射膜的工序,该低反射膜是含有二氧化硅 粒子和二氧化硅类基质的二氧化硅类多孔质膜;
所述二氧化硅粒子和所述二氧化硅类基质的SiO2换算固体成分的质量比 (二氧化硅粒子/二氧化硅类基质)在70/30~30/70的范围内,
所述烧成在所述化学强化玻璃板的退火点的温度以下的条件下进行。
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