[发明专利]薄膜的制造方法、透明导电膜

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜的形成方法、透明导电膜。本发明要求2013年10月30日申请 的日本专利的申请号2013-225549的优先权，对于认可基于文献参照方式的编入的指 定国，通过参照方式将该申请所述的内容编入本申请中。

背景技术

由氧化铟锡(ITO)、氧化锌(ZnO)等构成的透明导电膜作为液晶显示器、太阳能电 池的透明电极被广泛使用。这些透明导电膜通常利用溅射法生成。

此外，作为溅射法以外的方法，例如专利文献1中公开了利用金属氧化膜的成膜 装置进行金属氧化膜的成膜，“该成膜装置的特征在于，其具备加入有含有金属的材 料溶液(10)的第一容器(5A)、加入有过氧化氢的第二容器(5B，18)、配置基板(2)且具 有加热所述基板的加热器(3)的反应容器(1)、连接所述第一容器与所述反应容器，将 所述材料溶液从所述第一容器供给至所述反应容器的第一路径(L1)、连接所述第二容 器与所述反应容器，将所述过氧化氢从所述第二容器供给至所述反应容器的第二路径 (L2)”。在专利文献1中记载的成膜装置中，使含有金属的材料溶液与过氧化氢在加 热后的基板上反应，进行金属氧化膜的成膜。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:国际公开第2011/151889号

发明内容

发明要解决的课题

本发明目的在于提供一种代替上述现有技术的新方法作为得到薄膜的技术。

用于解决课题的手段

本发明方式是为了实现上述目的而完成的，本发明的薄膜的制造方法的特征在 于，其具有使含有微粒的分散液雾化的雾化工序；将经雾化的分散液供给至基板的供 给工序；使供给至所述基板上的所述分散液干燥的干燥工序。

此外，本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于，所述经雾化的分散液中所含 有的微粒的粒径为100nm以下。

此外，特征还在于本发明方式的薄膜的制造方法中的所述基板含有树脂，具有可 挠性。

此外，特征还在于本发明方式的薄膜的制造方法中的所述干燥工序在低于所述基 板的软化点的温度下进行。

此外，特征还在于本发明方式的薄膜的制造方法中的所述干燥工序在10℃以上 40℃以下的温度下进行。

此外，本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于，其具备在所述基板上形成由 亲水部与斥水部构成的图案的亲斥水图案形成工序，对利用所述亲斥水图案形成工序 形成有所述亲斥水图案的基板进行所述供给工序。

此外，本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于，在所述干燥工序之后，具备 对所述基板照射紫外线的紫外线照射工序，对经所述紫外线照射工序照射紫外线的所 述基板再次进行供给工序。

此外，本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于，在所述供给工序中，所述紫 外线照射工序前供给的所述雾中所含的所述微粒与所述紫外线照射工序后供给的所 述雾中所含的所述微粒不同。

此外，特征还在于在本发明方式的薄膜的制造方法中的所述紫外线照射工序照射 的紫外线至少包含200nm以下的波长。

此外，本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于，在所述供给工序中，所述基 板相对于水平面倾斜。

此外，本发明方式的薄膜的制造方法的特征还在于，在所述供给工序中，所述基 板相对于与所述供给方向正交的面倾斜。

此外，特征还在于本发明方式的薄膜的制造方法中的所述微粒为含有铟、锌、锡 和钛的任一种的金属氧化物微粒。

此外，本发明方式的透明导电膜的特征在于，其由上述的薄膜的制造方法制得。 发明效果

本发明能够提供一种代替现有技术的新方法作为得到薄膜的技术。

附图说明

图1为用于说明本实施方式的金属氧化物膜的成膜方法的一例的截面图。

图2为示出本实施方式中的成膜装置的一例的图。

图3为用于说明本变形例的导电膜的制造方法的一例的截面图(其1)。

图4为用于说明本变形例的导电膜的制造方法的一例的截面图(其2)。

图5为示出RolltoRoll(卷对卷)方式制造装置的概要的图。

图6为示出不同加热干燥温度的薄层电阻的图。

图7为得到的ITO膜的SEM图像。