[发明专利]包含烧结的羟基磷灰石的洁齿剂组合物

权利要求书

1.一种洁齿剂组合物，其包含烧结的羟基磷灰石研磨剂。

2.根据权利要求1的组合物，其中所述烧结的羟基磷灰石的平均粒度为大约1至大约20 微米。

3.根据权利要求1或权利要求2的组合物，其中所述烧结的羟基磷灰石以总洁齿剂组合 物重量的0.05至4%的量存在。

4.根据权利要求1至3任一项的组合物，其包含补充研磨剂。

5.根据权利要求4的组合物，其中所述补充研磨剂选自二氧化硅、氧化铝、水合氧化铝、 煅烧氧化铝、碳酸钙、无水磷酸二钙、二水合磷酸二钙、水不溶性偏磷酸钠、氧化锆、珍珠岩、 金刚石、稻壳二氧化硅、硅胶、硅酸铝、焦磷酸盐、浮石、基于磷酸钙的矿物（例如磷酸三钙 (TCP)、水合HA和混合相(HA:TCP)磷酸钙矿物）及其混合物。

6.根据权利要求1至3任一项的组合物，其中所述烧结的羟基磷灰石是所述洁齿剂组合 物中的唯一研磨剂。

7.根据权利要求1至6任一项的组合物，其包含水溶性缩合磷酸盐。

8.根据权利要求7的组合物，其中所述缩合磷酸盐是水溶性碱金属三聚磷酸盐。

9.根据权利要求1至8任一项的组合物，其包含脱敏剂。

10.根据权利要求1至9任一项的组合物，其包含氟离子来源。

11.烧结的羟基磷灰石作为根据权利要求1至10任一项的洁齿剂组合物中的研磨剂的 用途。

12.一种用于制备根据权利要求1至10任一项的洁齿剂组合物的方法，其包括合适地在 真空下混合成分，直至获得均匀混合物，并且如果必要则调节pH。