[发明专利]树脂组合物、基底和制造电子装置的方法

权利要求书

1.一种树脂组合物，包含：

芳香族聚酰胺；和

溶解所述芳香族聚酰胺的溶剂，

其中所述树脂组合物用于形成层，并且所述层在355nm波长下的总透光率为10％或更 小。

2.根据权利要求1所述的树脂组合物，其中所述芳香族聚酰胺包含萘结构。

3.根据权利要求1所述的树脂组合物，其中所述芳香族聚酰胺包含羧基。

4.根据权利要求1所述的树脂组合物，其中所述芳香族聚酰胺是全芳香族聚酰胺。

5.根据权利要求1所述的树脂组合物，其中所述芳香族聚酰胺具有由以下通式(I)表示 的第一重复单元和由以下通式(II)表示的第二重复单元：

其中x表示所述第一重复单元的摩尔％，y表示所述第二重复单元的摩尔％，n表示1至4 的整数，Ar₁由以下通式(III)表示；

(其中q＝3并且R₂和R₃各自选自氢原子、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子和碘原子)、 烷基、经取代的烷基如卤代烷基、硝基、氰基、硫代烷基、烷氧基、经取代的烷氧基如卤代烷 氧基、芳基、经取代的芳基如卤代芳基、烷基酯基、经取代的烷基酯基、及其组合)，Ar₂由以 下通式(IV)或(V)表示；

(其中p＝4，R₆、R₇和R₈各自选自氢原子、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子和碘原子)、 烷基、经取代的烷基如卤代烷基、硝基、氰基、硫代烷基、烷氧基、经取代的烷氧基如卤代烷 氧基、芳基、经取代的芳基如卤代芳基、烷基酯基、经取代的烷基酯基、及其组合，并且G₂选 自共价键、CH₂基团、C(CH₃)₂基团、C(CF₃)₂基团、C(CX₃)₂基团(X表示卤素原子)、CO基团、氧原 子、硫原子、SO₂基团、Si(CH₃)₂基团、9,9-芴基、经取代的9,9-芴基和OZO基团(Z表示芳基或 经取代的芳基，例如苯基、联苯基、全氟联苯基、9,9-双苯基芴基和经取代的9,9-双苯基芴 基))，并且Ar₃由以下通式(VI)或(VII)表示；

(其中t＝1至3，R₉、R₁₀和R₁₁各自选自氢原子、卤素原子(氟原子、氯原子、溴原子和碘原 子)、烷基、经取代的烷基如卤代烷基、硝基、氰基、硫代烷基、烷氧基、经取代的烷氧基如卤 代烷氧基、芳基、经取代的芳基如卤代芳基、烷基酯基、经取代的烷基酯基、及其组合，并且 G₃选自共价键、CH₂基团、C(CH₃)₂基团、C(CF₃)₂基团、C(CX₃)₂基团(X表示卤素原子)、CO基团、 氧原子、硫原子、SO₂基团、Si(CH₃)₂基团、9,9-芴基、经取代的9,9-芴基和OZO基团(Z表示芳 基或经取代的芳基，例如苯基、联苯基、全氟联苯基、9,9-双苯基芴基和经取代的9,9-双苯 基芴基))。

6.根据权利要求1所述的树脂组合物，其中所述芳香族聚酰胺的至少一端是封端的。

7.根据权利要求1所述的树脂组合物，其中所述树脂组合物还包含无机填料。