[发明专利]喷嘴调整辅助件和方法有效

专利信息
申请号: 201480055134.1 申请日: 2014-08-04
公开(公告)号: CN105612007B 公开(公告)日: 2019-09-06
发明(设计)人: W.阿波塔;A.舍内 申请(专利权)人: 凯密特尔有限责任公司
主分类号: B05B12/00 分类号: B05B12/00;B05B12/12
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 吴鹏;马江立
地址: 德国法*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 喷嘴 调整 辅助 方法
【权利要求书】:

1.一种用于液体喷涂喷嘴(B)的喷嘴调整辅助件(A),其用于测试、定位和/或调整用于在表面工程设施中喷涂的至少一个液体喷涂喷嘴(B),其特征在于,所述喷嘴调整辅助件(A)具有一个喷嘴适配器(F)和至少两个被定位且对齐的光源,并且所述光源清晰地集束和/或聚焦,

借助于所述光源能够近似沿喷嘴中线(D)和近似沿理论喷涂范围(C)的边缘处的至少一条边界线(R)或近似沿至少两条相对的边界线(R)产生至少两个光束(J、P),

所述光束应当基本上表明所述理论喷涂范围(C)的位置和大小,并且能够在物体表面上、吊架上、传输装置上和/或所述设施中的壁上以光斑形式可见,

由所述光束(J、P)形成的角度近似对应于理论喷涂角度的一半或全部(N、O)并且所述光束(J、P)定位在至少基本上中心对称的截面中,该截面通过所述理论喷涂范围(C)的中心面获得,所述光源包括第一类型光源和第二类型光源(M),所述第一类型光源沿喷嘴中线(D)发射中央光束(J),所述第二类型光源沿理论喷涂范围(C)的边缘处的一条边界线(R)发射光束(P)。

2.根据权利要求1所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,其是手持装置。

3.根据权利要求1或2所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,其包括基板(E)、喷嘴适配器(F)和至少两个光源适配器,每个光源适配器各带有一个光源。

4.根据权利要求3所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,也包括至少一个桥台,所述桥台在所述基板(E)的顶部上和/或底部上具有带有至少一个第一类型光源的至少一个光源适配器,并且近似处于镜面(G)的平面中或与其平行,所述镜面的平面沿喷嘴中线(D)垂直于基板(E)。

5.根据权利要求1或2所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,能够使用至少两个光源产生至少两个光束(J、P),并且至少两个光斑能够产生在与所述喷嘴相对的表面上,从而代表至少一条边界线(R)和/或在所述理论喷涂范围(C)的边界处的至少一个边界点。

6.根据权利要求1或2所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,两个第二类型光源(M,M)、两个光束(P,P)基本上在通过所述喷嘴中线(D)的平面中形成,从而引起两个光斑在与所述喷嘴相对的表面上可见,从而代表在通过所述理论喷涂范围(C)的平面的且基本上中心对称的截面中的、所述理论喷涂范围(C)的边界点。

7.根据权利要求3所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,所述光源的光源适配器借助于常规结构辅助件和/或定位辅助件以特定角度调整在所述基板(E)上安装、定位和对齐。

8.根据权利要求3所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,所述光源的所述光源适配器非常小以致多于两个所述光源适配器同时附连在所述喷嘴调整辅助件(A)的所述基板(E)上。

9.根据权利要求3所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,第二类型光源(M)的光源适配器成对布置。

10.根据权利要求4所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,所述光源的光源适配器围绕所述喷嘴中线(D)、所述镜面(G)和/或第一类型光源的中央光束(J)以镜面对称附连。

11.根据权利要求4所述的喷嘴调整辅助件,其特征在于,所述光源的所述光源适配器相比于钻孔、定位辅助件、用于角度对齐的辅助件和/或所述基板(E)中的至少一个第二凹部的同轴布置,借助于所述基板(E)中的至少一个第一同轴凹部附连,以能够针对不同大小的角度(N、O)尽可能连续地调整所述光源,其中所述同轴器件的轴线通过中心点(Z)和/或在所述镜面(G)中基本上垂直于所述基板(E)延伸。

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