[发明专利]锗离子水的生成及供给装置

权利要求书

1.一种锗离子水的生成及供给装置，其为离子水的生成及供给装置，上述锗离子水的生成及供给装置的特征在于，包括：

原水供给管(110)，用于向水槽部供给原水；

离子水排出管(120)，用于向外部排出锗离子水；

水位检测传感器部(130)，设置于水槽部内部的一个位置，上述水位检测传感器部(130)用于检查原水的流入状态，向主控制器传递原水检测信号；

水槽部(100)，上述水槽部(100)的一侧形成有用于流入通过原水供给管供给的原水的流入口，并设置有包括连接器的第一纯锗棒(105)和第二纯锗棒(105a)，上述水槽部(100)的另一侧形成有用于向离子水排出管提供根据上述第一纯锗棒和上述第二纯锗棒的反应溶出的纯锗离子水的流出口；

浓度调节部(200)，用于根据主控制器的控制来调节纯锗离子水的浓度；

主控制器(300)，在取得上述水位检测传感器部的原水检测信号时，上述主控制器(300)用于向浓度调节部提供工作指令；

冷却装置部(500)，形成于上述水槽部的内部，在进行纯锗离子水反应时，上述冷却装置部(500)用于根据主控制器的控制来散发水槽部生成的热量，

上述锗离子水的生成及供给装置向上述第一纯锗棒(105)和上述第二纯锗棒(105a)供给电脉冲。

2.一种锗离子水的生成及供给装置，其为离子水的生成及供给装置，上述锗离子水的生成及供给装置的特征在于，包括：

原水供给管(110)，用于向水槽部供给原水；

离子水排出管(120)，用于向外部排出锗离子水；

水位检测传感器部(130)，设置于水槽部内部的一个位置，上述水位检测传感器部(130)用于检查原水的流入状态，向主控制器传递原水检测信号；

水槽部(100)，上述水槽部(100)的一侧形成有用于流入通过原水供给管供给的原水的流入口，并设置有包括连接器的第一纯锗棒(105)和第二纯锗棒(105a)，上述水槽部(100)的另一侧形成有用于向离子水排出管提供根据上述第一纯锗棒和上述第二纯锗棒的反应溶出的纯锗离子水的流出口；

浓度调节部(200)，用于根据主控制器的控制来调节纯锗离子水的浓度；

主控制器(300)，在取得上述水位检测传感器部的原水检测信号时，上述主控制器(300)用于向浓度调节部提供工作指令；

冷却装置部(500)，形成于上述水槽部的内部，在进行纯锗离子水反应时，上述冷却装置部(500)用于根据主控制器的控制来散发水槽部生成的热量；

搅拌部(550)，以规定间隔并呈螺旋桨形状地设置于上述冷却装置部的外侧，在进行纯锗离子水反应时，根据主控制器的控制来均匀地搅拌离子水和水来维持规定的浓度，

上述锗离子水的生成及供给装置向上述第一纯锗棒(105)和上述第二纯锗棒(105a)供给电脉冲。

3.根据权利要求2所述的锗离子水的生成及供给装置，其特征在于，上述主控制器(300)包括：

原水检测信号取得部(310)，用于取得水位检测传感器部的原水检测信号；

浓度调节工作指令部(320)，在取得浓度操作信号后，上述浓度调节工作指令部(320)用于向浓度调节部提供工作指令；

杀菌灯工作指令部(330)，用于控制向杀菌灯电源供给部的电源供给；

冷却装置工作指令部(340)，在进行纯锗离子水反应时，上述冷却装置工作指令部(340)用于向冷却装置部提供工作指令；

搅拌部工作指令部(350)，在进行纯锗离子水反应时，上述搅拌部工作指令部(350)用于向搅拌部提供工作指令。