[发明专利]方法

权利要求书

1.一种用于修饰模板双链多核苷酸的方法，包含：

(a)将模板多核苷酸与MuA转座酶和双链MuA底物组接触，每个所述底物含有至少一个通用核苷酸突出，所述通用核苷酸突出能与模板多核苷酸中的所有核苷酸都有一定程度杂交，使得所述转座酶将所述模板多核苷酸片段化并将底物连接到双链片段的一端或两端，并由此制备多个片段-底物构建体；以及

(b)将所述突出连接到所述构建体中的所述片段，并由此制备多个修饰的双链多核苷酸。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述通用核苷酸是基于次黄嘌呤，4-硝基吲哚，5-硝基吲哚，6-硝基吲哚，3-硝基吡咯，硝基咪唑，4-硝基吡唑，4-硝基苯咪唑，5-硝基吲唑，4-氨基苯并咪唑或苯基。

3.根据权利要求2所述的方法，所述通用核苷酸是基于2'-脱氧肌苷，肌苷，7-脱氮-2'-脱氧肌苷，7-脱氮-肌苷，2-氮杂-脱氧肌苷，2-氮杂-肌苷，4-硝基吲哚2'-脱氧核糖核苷，4-硝基吲哚核糖核苷，5-硝基吲哚-2'脱氧核糖核苷，5-硝基吲哚核糖核苷，6-硝基吲哚-2'脱氧核糖核苷，6-硝基吲哚核糖核苷，3-硝基吡咯-2'脱氧核糖核苷，3-硝基吡咯核糖核苷，次黄嘌呤的无环糖类似物，硝基咪唑2'-脱氧核糖核苷，硝基咪唑核糖核苷，4-硝基吡唑2'-脱氧核糖核苷，4-硝基吡唑核糖核苷，4-硝基苯咪唑2'-脱氧核糖核苷，4-硝基苯咪唑核糖核苷，5-硝基吲唑2'-脱氧核糖核苷，5-硝基吲唑核糖核苷，4-氨基苯并咪唑2'-脱氧核糖核苷，4-氨基苯并咪唑核糖核苷，苯基C-核糖核苷或苯基C-2'-脱氧核糖核苷。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述突出为5个核苷酸的长度。

5.根据权利要求1所述的方法，其中(a)每个底物包括位于一端的突出和位于另一端的发夹环，且其中由所述方法制备的所述修饰的双链多核苷酸的两条链通过位于一端或两端的所述发夹环连接或者(b)所述底物组中的部分底物包含位于一端的突出和位于另一端的发夹环，且所述底物组中的部分底物是一端具有突出和另一端具有非互补区域的Y-底物，并且其中至少一些由所述方法制备的所述修饰的双链多核苷酸具有位于一端的发夹环和位于另一端的非互补区域。

6.根据权利要求1所述的方法，其中每个底物是一端具有突出和另一端具有非互补区域的Y-底物，且其中通过所述方法制备的所述修饰的双链多核苷酸在一端或两端具有非互补区域。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述底物包括选择性结合部分。

8.根据权利要求5所述的方法，其中所述方法进一步包括分离至少一个修饰的双链多核苷酸的两条链，以产生至少一个单链多核苷酸，所述单链多核苷酸包含所述修饰的双链多核苷酸的一条链，该链连接到所述修饰的双链多核苷酸的另一条链。

9.一种表征至少一种使用根据权利要求1所述方法进行修饰的多核苷酸的方法，包含：

a)将所述修饰的多核苷酸与跨膜孔接触，使得所述多核苷酸的至少一条链移动穿过所述孔；以及

b)随着所述至少一条链相对于所述孔移动，获取一个或多个测量值，其中所述测量值代表所述至少一条链的一个或多个特征，并由此表征所述修饰的多核苷酸。

10.一种表征模板多核苷酸的方法，包括：

a)使用根据权利要求1所述的方法修饰所述模板多核苷酸，以产生多个修饰的多核苷酸；

b)将每个修饰的多核苷酸与跨膜孔接触，使得每个多核苷酸的至少一条链移动穿过所述孔；以及

c)随着所述每个多核苷酸的至少一条链相对于所述孔移动，获取一个或多个测量值，其中所述测量值代表所述每个多核苷酸的至少一条链的一个或多个特征，并由此表征所述模板多核苷酸。