[发明专利]用于制备纹理化膜的系统和方法在审
申请号: | 201480057259.8 | 申请日: | 2014-10-09 |
公开(公告)号: | CN105684129A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 约翰·P·贝茨尔德;米切尔·A·F·约翰逊;史蒂文·J·麦克曼;弗兰克·T·谢尔;罗伯特·A·亚佩尔;帕特里克·J·叶舍 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | H01L21/20 | 分类号: | H01L21/20 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 顾红霞;彭会 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制备 纹理 系统 方法 | ||
1.一种制备具有复杂形貌的幅材的方法,所述方法包括:
向基底的第一主表面施加第一可涂覆型材料;
将所述第一可涂覆型材料的粘度从第一粘度改变为第二粘度以形成第二可涂覆型材 料;
使所述基底上的所述第二可涂覆型材料与正面辊接触,所述正面辊具有第一主表面和 设置到所述正面辊的所述第一主表面中的多个辊特征结构;
分离所述基底和所述正面辊之间的所述第二可涂覆型材料,以在所述基底上的所述第 二可涂覆型材料中形成所得纹理,其中所述所得纹理包括第一区域和第二区域,所述第一 区域与所述正面辊的所述第一主表面和所述基底之间的分离相关联,所述第二区域从所述 正面辊上的与所述辊特征结构中的至少一个辊特征结构相关联的区域和所述基底之间的 分离得到,并且其中所述所得纹理在至少所述第二区域内包括凸脊特征结构的互连网络; 以及
硬化所述形成所得纹理的第二可涂覆型材料以制备具有随后的纹理化表面的所述幅 材。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述幅材包括衬件。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述所得纹理在所述第一区域和所述第二区域两 者内包括凸脊特征结构的互连网络。
4.根据权利要求1所述的方法,其中所述凸脊特征结构的互连网络包括在所述第一区 域和所述第二区域之间延伸的分支。
5.根据权利要求3所述的方法,其中所述凸脊特征结构的互连网络包括在所述第一区 域和所述第二区域之间延伸的分支。
6.根据权利要求4所述的方法,其中所述辊特征结构包括插入图案,并且其中所述凸脊 特征结构基本上对应于所述插入图案。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述插入图案包括插入所述正面辊的所述外表面 中的凹槽,并且其中所述凹槽具有相对于所述正面辊上的其他凹槽的位置和尺寸。
8.根据权利要求7所述的方法,其中所述凸脊特征结构在位置和尺寸上对应于所述凹 槽。
9.根据权利要求7所述的方法,其中所述正面辊的所述外表面的所述区域的至少1%与 凹槽相关联。
10.根据权利要求7所述的方法,其中所述正面辊的所述外表面的所述区域的至少3% 与凹槽相关联。
11.根据权利要求7所述的方法,其中所述正面辊的所述外表面的所述区域的至少5% 与凹槽相关联。
12.根据权利要求7所述的方法,其中所述正面辊的所述外表面的所述区域的介于4% 和30%之间的部分与凹槽相关联。
13.根据权利要求4所述的方法,其中所述所得纹理包括从所述分离得到的第一纹理以 及在所述第一纹理内重叠的对应于所述辊特征结构的第二纹理。
14.根据权利要求4所述的方法,还包括:
将所述所得基底卷绕到辊上。
15.根据权利要求4所述的方法,其中所述第一可涂覆型材料包括促进剥离的材料。
16.根据权利要求2所述的方法,其中所述衬件是剥离衬件。
17.根据权利要求6所述的方法,其中所述插入图案包括重复形状。
18.根据权利要求6所述的方法,其中所述插入图案包括线性或蛇形特征结构。
19.根据权利要求17所述的方法,其中所述重复形状包括菱形。
20.根据权利要求17所述的方法,其中所述重复形状包括正方形。
21.根据权利要求17所述的方法,其中所述重复形状包括蜂窝形状。
22.根据权利要求17所述的方法,其中所述重复形状包括多边形。
23.根据权利要求7所述的方法,其中所述凹槽具有横截面轮廓。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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