[发明专利]光刻设备、图案形成装置和光刻方法在审
申请号: | 201480058326.8 | 申请日: | 2014-10-10 |
公开(公告)号: | CN105659165A | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | P·W·H·德贾格;R·A·J·范德韦尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴敬莲 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 设备 图案 形成 装置 方法 | ||
1.一种曝光设备,包括:
衬底保持装置,构造成保持衬底;
调制器,包括用于发射电磁辐射的多个辐射源,配置成用根据期望的 图案调制的多个辐射束曝光目标部分;
投影系统,配置成将经过调制的束投影到目标部分上并且包括用于接 收所述多个辐射束的光学元件阵列;以及
致动器,配置成在目标部分的曝光过程中相对于所述多个辐射源移动 所述光学元件阵列,其中所述多个辐射束的二维阵列用所述多个光学元件 中的单个光学元件成像。
2.一种曝光设备,包括:
可编程图案形成装置,所述可编程图案形成装置具有多个辐射源以提 供多个辐射束;以及
可移动框架,所述可移动框架具有光学元件以接收来自所述多个辐射 源的辐射束和将所述辐射束向目标部分和衬底投影,所述光学元件是折射 式光学元件,其中所述多个辐射束的二维阵列用所述多个光学元件中的单 个光学元件成像。
3.根据权利要求1或2所述的设备,其中所述衬底是辐射敏感衬底, 且其中所述光学元件配置成将所述辐射束投影到衬底的目标部分上。
4.根据权利要求1或2所述的设备,还包括施主结构,在使用中, 所述施主结构位于从所述多个辐射源至衬底的光学路径中,所述施主结构 配置成支撑施主材料层,所述施主材料层能够从所述施主结构迁移到衬底 上,所述辐射束照射到所述施主材料层上。
5.根据权利要求1或2所述的设备,其中,所述衬底包括包括颗粒 的层,且其中所述光学元件配置成将所述辐射束投影到衬底的目标部分上 以烧结所述层的至少一部分。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的设备,其中所述移动包括旋 转和/或所述移动使所述辐射束移位。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的设备,其中光学元件阵列相 对于所述多个辐射源旋转。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的设备,其中每个光学元件包 括至少两个透镜,所述至少两个透镜沿着所述多个辐射束的二维阵列的从 所述多个辐射源至目标部分的束路径布置。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的设备,其中光学元件阵列被 布置成二维阵列。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的设备,其中所述多个辐射源 被布置成二维阵列。
11.根据权利要求1至10中任一项所述的设备,其中所述多个辐射 源包括多个垂直外腔表面发射激光器或垂直腔表面发射激光器。
12.根据权利要求1至10中任一项所述的设备,其中所述多个辐射 源包括多个微发光二极管。
13.一种曝光设备,包括:
衬底保持装置,构造成保持衬底;
垂直外腔表面发射激光器或垂直腔表面发射激光器,用于提供辐射 束;
施主结构,在使用中,所述施主结构位于从所述垂直外腔表面发射激 光器或垂直腔表面发射激光器至衬底的光学路径中,所述施主结构配置成 支撑施主材料层,所述施主材料层能够从所述施主结构迁移到衬底上,所 述辐射束照射到所述施主材料层上,所述辐射束未被频率倍增;以及
投影系统,配置成将所述辐射束投影到所述施主材料层上。
14.根据权利要求13所述的设备,其中所述施主材料是金属。
15.根据权利要求13或14所述的设备,其中所述施主结构配置成使 所述施主材料层移动或移位。
16.根据权利要求13至15中任一项所述的设备,还包括调制器,所 述调制器配置成用根据期望的图案进行调制的多个辐射束来曝光目标部 分,所述调制器包括用于提供所述多个辐射束的多个垂直外腔表面发射激 光器或垂直腔表面发射激光器。
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