[发明专利]无机光学元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201480058385.5 | 申请日： | 2014-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN105659124B | 公开（公告）日： | 2019-06-04 |
| 发明（设计）人： | 大和田雅弘 | 申请（专利权）人： | 迪睿合株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02B1/14 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 无机 光学 元件 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种无机光学元件，其特征在于，具备：
双折射膜，由具有层叠有电介质微粒的柱状部和作为所述柱状部之间的空气层的空隙部的柱状结构构成；以及
保护膜，形成在所述双折射膜上；
所述保护膜的成分侵入所述双折射膜的所述柱状结构的所述空隙部的一部分，
所述保护膜的成分的侵入量为10nm以上，以提高所述双折射膜与所述保护膜的贴合性。
2.根据权利要求1所述的无机光学元件，其特征在于，
所述保护膜由SiO2构成。
3.根据权利要求1或2所述的无机光学元件，其特征在于，具备：
玻璃基板；以及
匹配膜，形成在所述玻璃基板上；
在所述匹配膜上形成有所述双折射膜。
4.一种无机光学元件的制造方法，其特征在于，
在由具有层叠有电介质微粒的柱状部和作为所述柱状部之间的空气层的空隙部的柱状结构构成的双折射膜上成膜出保护膜，并使所述保护膜的成分侵入所述柱状结构的所述空隙部的一部分达10nm以上，以提高所述双折射膜与所述保护膜的贴合性。
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