[发明专利]成像系统和成像方法

权利要求书

1.一种成像系统(1)，其带有

-用于发出辐射(5)的辐射源(3)，

-辐射探测器(13)，其具有规则的探测器元件(13i)阵列，

-荫罩(15)，其具有规则重复的图案，

其中，所述荫罩(15)和所述辐射探测器(13)这样布置，以便在所述探测 器(13)位置处通过所述辐射(5)产生所述荫罩(15)的图案的投影(25,25')，

并且其中，所述图案的无失真投影(25)的空间重复长度(26)不同于所述 探测器元件(13i)阵列的空间重复长度(14)的二倍。

2.根据权利要求1所述的成像系统(1)，其中，所述图案的无失真投影 (25)的空间重复长度(26)相对于所述探测器元件(13i)阵列的空间重复长度(14) 的二倍偏差至少0.5％和最高20％。

3.根据权利要求1或2所述的成像系统(1)，其中，所述图案的投影(25) 的空间重复长度(26)和所述探测器元件(13i)阵列的空间重复长度(14)的两倍 成整数比例，该整数分别处于1至100之间。

4.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述辐射源(1)为 X射线源，所述辐射探测器(13)为X射线探测器。

5.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，用于定位待检查 对象(12)的成像区域(11)布置在所述荫罩(15)与所述辐射探测器(13)之间。

6.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述荫罩(15)具有 二维规则图案，所述辐射探测器(13)具有探测器元件(13i)的二维规则阵列。

7.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述荫罩(15)具有 在针对所述辐射源(3)的辐射(5)的最弱吸收区域(15a)和强吸收区域(15b)之间 的规则交替。

8.根据权利要求7所述的成像系统(1)，其中，所述最弱吸收区域(15a) 在所述荫罩(15)的用于辐射穿透的有效总面积中所占比例在20％至60％之 间。

9.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述荫罩(15)具有 包含金属和/或金属合金的材料。

10.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述荫罩(15)的 规则图案由矩形组成。

11.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述荫罩(15)的 规则图案具有三重对称性和/或六重对称性。

12.根据前述权利要求之一所述的成像系统(1)，其中，所述荫罩(15)具 有由不规则设计的子图案构成的规则重复的图案。

13.一种成像方法，其中应用根据前述权利要求之一所述的成像系统 (1)，以借助辐射探测器(13)来测量由待检查对象(12)造成的、所述荫罩(15) 的图案在辐射探测器(13)的位置处的投影(25,25')的位移。

14.根据权利要求13所述的成像方法，其中，利用由各个探测器元件(13i) 测得的辐射强度的分布来计算所述对象(12)关于所述投影的各角度区域的折 射率分布。

15.根据权利要求14所述的成像方法，其中，在计算折射率分布时， 利用所测得的强度分布展开所述荫罩的投影(25)的结构。