[发明专利]合金镀覆材料及合金镀覆材料的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及合金镀覆材料、以及合金镀覆材料的制造方法。

背景技术

以往作为连接器(connector)、开关或印刷布线基板等中使用的电触点材料，使用在基材的表面形成有用于提高耐蚀性和导电性的合金镀层的构件。

作为这种在基材的表面形成有合金镀层的构件，例如专利文献1中公开了在基材上形成包含由规定的元素构成的非晶态合金的镀非晶态合金层而构成的合金镀覆材料。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2011-249247号公报

发明内容

发明要解决的问题

但是，对于上述专利文献1中公开的合金镀覆材料而言，由规定的元素构成的非晶态合金镀层的耐蚀性优异，另一方面，导电性不充分，存在作为电触点材料，得不到充分的特性的问题。

本发明是鉴于这种实际情况而提出的，其目的在于，提供除了耐蚀性之外、导电性也优异的合金镀覆材料。

用于解决问题的方案

本发明人等为了达成上述目的而进行深入研究，结果发现，对于作为最表层形成于基材上的合金镀层而言，通过形成构成合金的特定的元素的配混比处于规定范围内的合金镀层，可以达成上述目的，从而完成了本发明。

另外发现，构成合金的特定的元素的配混比处于规定范围之外的情况下，非晶态合金镀层的耐蚀性变差。例如如燃料电池构件那样在腐蚀气氛下长时间使用的情况下，经时溶出的金属有可能对燃料电池的发电特性造成不良影响，因此谋求具备耐蚀性和导电性这两者的镀覆材料。

即，根据本发明，提供一种合金镀覆材料，其特征在于，其具备基材和合金镀层，所述合金镀层通过形成于前述基材上而构成最表层、且包含M1-M2-M3合金(其中，M1为选自Ni、Fe、Co、Cu、Zn和Sn中的至少一种元素，M2为选自Pd、Re、Pt、Rh、Ag和Ru中的至少一种元素，M3为选自P和B中的至少一种元素)，前述合金镀层是M1与M2的摩尔比(M1/M2)为0.005～0.5的镀层。

本发明的合金镀覆材料中，优选前述合金镀层具有玻璃化转变温度。

本发明的合金镀覆材料中，优选前述合金镀层为类非晶态(amorphous like)。

本发明的合金镀覆材料中，优选对于前述合金镀层，使用X射线衍射装置利用微小角入射X射线衍射法测定时的衍射谱为没有源自含有M1、M2和M3中的至少一种元素的晶体的尖峰的形状、和/或具有源自非晶态结构的晕圈的形状。

另外，根据本发明，提供一种合金镀覆材料的制造方法，其特征在于，其具有在基材上以构成最表层的方式、利用化学镀覆形成包含M1-M2-M3合金的合金镀层的工序(其中，M1为选自Ni、Fe、Co、Cu、Zn和Sn中的至少一种元素，M2为选自Pd、Re、Pt、Rh、Ag和Ru中的至少一种元素，M3为选自P和B中的至少一种元素)，前述合金镀层以M1与M2的摩尔比(M1/M2)为0.005～0.5的方式形成。

发明的效果

根据本发明，可以提供除了耐蚀性之外、导电性也优异的合金镀覆材料。

附图说明

图1为表示本实施方式的合金镀覆材料100的结构的图。

图2A为表示对于Pd的晶体结构使用X射线衍射装置利用微小角入射X射线衍射法测定得到的衍射谱的一例的图。

图2B为表示对于类非晶态的合金镀层20利用X射线衍射装置测定得到的衍射谱的一例的图。

图2C为表示对于类非晶态的合金镀层20利用X射线衍射装置测定得到的衍射谱的其它例的图。

图3A为表示评价实施例中得到的合金镀覆材料100的耐蚀性得到的结果的图表(之一)。

图3B为表示评价实施例中得到的合金镀覆材料100的耐蚀性得到的结果的图表(之二)。

图3C为表示评价实施例中得到的合金镀覆材料100的耐蚀性得到的结果的图表(之三)。

图4为用于说明测定实施例中得到的合金镀覆材料100的接触电阻的方法的图。

图5为表示测定实施例中得到的合金镀覆材料100的接触电阻得到的结果的图表。

具体实施方式

以下对本实施方式的合金镀覆材料100进行说明。