[发明专利]提供光耦合至皮肤组织的皮肤处理装置有效
申请号: | 201480061153.5 | 申请日: | 2014-11-06 |
公开(公告)号: | CN105705109B | 公开(公告)日: | 2019-05-03 |
发明(设计)人: | J·A·帕勒洛;M·朱纳;B·瓦尔格斯;M·R·霍顿 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B18/20 | 分类号: | A61B18/20 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 郑立柱 |
地址: | 荷兰艾恩*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提供 耦合 皮肤 组织 处理 装置 | ||
1.一种皮肤处理装置(200),用于皮肤组织(300)的基于光的处理,所述皮肤处理装置(200)包括:
光源(10),被构造为发射处理光(15),
光学系统(20,22),被构造为使所述处理光(15)沿着光轴(OA,OAn)聚焦至所述皮肤组织(300)内部的焦点位置(320,322),和
压头(30,32),包括皮肤接触表面(34),所述皮肤接触表面具有距所述光学系统(20,22)一定距离、用于允许所述处理光(15)穿过孔(A1,An)被聚焦到所述皮肤组织(300)内的孔(A1,An),所述压头(30,32)和所述孔(A1,An)被配置并构造为:当所述压头(30,32)被用超过预定压力的压力压抵特定皮肤类型的皮肤表面(310)时,在所述孔(A1,An)的沿着所述光轴(OA,OAn)并沿着所述孔(A1,An)具有宽度尺寸(d1,dn)所在的截面方向截取的截面中,生成穿过所述孔(A1,An)朝向所述光学系统(20,22)自由突出的皮肤组织(300)的最大弯曲突起(330,332),其中高于针对所述特定皮肤类型的所述预定压力时,所述自由突出的弯曲突起(330,332)保持恒定,所述最大弯曲突起(330,332)的皮肤表面在与所述光轴(OA,OAn)的交叉处具有曲率半径(RC,RCn),
所述光学系统(20,22)被配置并构造为生成所述处理光(15)的聚焦光束,所述聚焦光束沿所述孔(A1,An)的所述截面在所述交叉处具有波前(WF),所述波前的曲率半径的范围处于所述最大弯曲突起的皮肤表面的所述曲率半径(RC,RCn)的75%与125%之间。
2.根据权利要求1所述的皮肤处理装置(200),其中所述孔(A1,An)的所述宽度尺寸(d1,dn)小于2毫米。
3.根据权利要求2所述的皮肤处理装置(200),其中所述预定压力是每平方厘米1.43牛顿。
4.根据权利要求1所述的皮肤处理装置(200),其中所述波前(WF)的所述曲率半径的范围在所述最大弯曲突起的皮肤表面的所述曲率半径(RC,RCn)的95%与105%之间。
5.根据权利要求1所述的皮肤处理装置(200),其中所述压头(30,32)被可去除地附接至所述皮肤处理装置(200)并且能用具有与所述孔(A1,An)不同的另一孔的另一压头替换。
6.根据权利要求1或2所述的皮肤处理装置(200),其中所述孔(A1,An)在横向于所述孔(A1,An)的截面方向的方向上的尺寸大于2毫米。
7.根据权利要求1所述的皮肤处理装置(200),其中所述光学系统(22)被配置并构造成生成在所述皮肤组织(300)内部的空间上分开的多个聚焦位置(322),并且其中所述压头(32)包括多个孔(An),每一个孔与所述多个聚焦位置中的相应一个聚焦位置相关联并且每一个孔被配置并构造为生成所述皮肤组织的最大弯曲突起(332),所述光学系统(22)被配置并构造为生成所述处理光的多个聚焦光束,每个聚焦光束沿相关联的孔(A1,An)的所述截面在所述交叉处均具有波前,所述波前的曲率半径的范围在由所述相关联的孔生成的最大弯曲突起的皮肤表面的所述曲率半径(RCn)的75%与125%之间。
8.根据权利要求1所述的皮肤处理装置(200),其中所述压头(30,32)经由弹性元件(40)被附接至所述皮肤处理装置(200)。
9.根据权利要求1所述的皮肤处理装置(200),其中所述皮肤处理装置(200)包括:压力传感器(50),用于测量所述压头(30,32)在使用中压抵所述皮肤表面的压力;和控制电路(240),被配置成控制所述光源以仅当由所述压力传感器(50)测量出的所述压力超过所述预定压力时发射所述处理光。
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