[发明专利]用于控制EUV光源中的靶材料的微滴的系统和方法

权利要求书

1.一种用于对具有以估计速率释放微滴的微滴发生器的极紫外激光产生等离子体(EUV LPP)光源中的源激光器的发射定时的系统，所述源激光器将脉冲发射在辐照部位处，所述系统包括：

微滴照射模块，包括被配置成生成第一激光幕帘和第二激光幕帘的单一个线激光器，所述第一激光幕帘和所述第二激光幕帘是正交偏振的并且每一个位于所述微滴发生器与所述辐照部位之间；

微滴检测模块，包括被配置成检测当所述微滴通过所述第一激光幕帘时的闪光的第一传感器；

第一控制器，被配置成：

基于由所述第一传感器检测到的所述闪光、从所述第一激光幕帘到所述辐照部位的已知距离和所述微滴的所述估计速率，确定所述源激光器应该发射脉冲的时间以便在所述微滴到达所述辐照部位时辐照所述微滴；和

生成指示所述源激光器在确定的所述时间发射的定时信号；

第二传感器，被配置成检测所述微滴通过所述第二激光幕帘时的闪光；和

第二控制器，被配置成基于由所述第二传感器检测到的所述闪光确定所述微滴不在通向所述辐照部位的期望轨迹上，并且提供指示出对所述微滴发生器释放随后的微滴的方向的调节的信号，以将所述随后的微滴放置在所述期望轨迹上。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述系统进一步包括：

第三传感器，被配置成检测当所述微滴通过所述第一激光幕帘时来自所述第一激光幕帘的闪光；和

第三控制器，被配置成基于由所述第三传感器检测到的所述闪光确定所述微滴不在通向所述辐照部位的所述期望轨迹上，并且提供指示出对所述微滴发生器的定向的调节的信号，以将随后的微滴放置在所述期望轨迹上。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述微滴照射模块进一步包括在所述线激光器与所述微滴的所述期望轨迹之间的观察口。

4.根据权利要求3所述的系统，其中所述微滴照射模块进一步包括用于保护所述观察口的端口保护孔径。

5.根据权利要求4所述的系统，其中所述端口保护孔径包括多个分开的金属元件。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述微滴照射模块进一步包括被配置成使来自所述线激光器的光束分裂成具有相互正交的偏振的两个光束。

7.一种用于对具有以估计速率释放微滴的微滴发生器的EUVLPP光源中的源激光器的发射定时的方法，所述源激光器将脉冲发射在辐照部位处，所述方法包括：

从单一个激光器源生成第一激光幕帘和第二激光幕帘，所述第一激光幕帘和所述第二激光幕帘具有彼此正交的偏振并且位于所述微滴发生器与所述辐照部位之间；

由第一传感器检测所述微滴通过所述第一激光幕帘时的闪光；

从由所述第一传感器检测到的所述闪光确定所述微滴不在通向所述辐照部位的期望轨迹上，并且提供指示出对所述微滴发生器释放随后的微滴的方向的调节的信号，以将所述随后的微滴放置在所述期望轨迹上；

由第二传感器检测所述微滴通过所述第二激光幕帘时的闪光；和

基于由所述第二传感器检测到的所述闪光、从所述第一激光幕帘到所述辐照部位的已知距离和所述微滴的所述估计速率，确定所述源激光器应该发射脉冲的时间以便在所述微滴到达所述辐照部位时辐照所述微滴，和生成指示所述源激光器在确定的所述时间发射的定时信号。

8.根据权利要求7所述的方法，进一步包括：

由第三传感器检测所述微滴通过所述第一激光幕帘时的闪光；和

从由所述第三传感器检测到的所述闪光确定所述微滴不在通向所述辐照部位的所述期望轨迹上，并且提供指示出对所述微滴发生器释放随后的微滴的方向的调节的信号，以将所述随后的微滴放置在所述期望轨迹上。