[发明专利]光刻方法和设备

权利要求书

1.一种用于对由光学系统所形成的光学图像进行校正的方法，所述方法包括：

获得指示横跨所述光学系统的整个光瞳平面的、对于在所述光学系统的像平面中的每个空间位置的所述光学系统的偏振相关特性的图；

将指示所述光学系统的偏振相关特性的图与输入辐射束的强度和偏振的辐射图相组合以形成图像图；以及

使用所述图像图来对通过引导所述输入辐射束经过所述光学系统而形成的光学图像进行校正。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在所述输入辐射束进入所述光学系统之前，图案被图案形成装置赋予所述输入辐射束，并且其中所述辐射图包含与所述图案相关的信息。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中通过将校正图确定为所述图像图与所述辐射图之间的差异，并且随后使用所述校正图来对通过引导所述输入辐射束经过所述光学系统所形成的光学图像进行校正，而实现对所述光学图像的校正。

4.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其中通过使用所述图像图来确定所述偏振相关特性对于通过引导所述输入辐射束经过所述光学系统所形成的所述光学图像的影响，并且随后执行对于该光学图像进行校正的校正，而实现对所述光学图像的校正。

5.根据权利要求3所述的方法，其中通过操纵所述光学系统的光学元件而实现对所述光学图像的校正。

6.根据权利要求4所述的方法，其中通过操纵所述光学系统的光学元件而实现对所述光学图像的校正。

7.根据权利要求3所述的方法，其中通过修改所述图案形成装置的图案，实现对所述光学图像的校正。

8.根据权利要求4所述的方法，其中通过修改所述图案形成装置的图案，实现对所述光学图像的校正。

9.根据权利要求1所述的方法，其中获得指示所述偏振相关特性的图包括对指示所述偏振相关特性的图进行测量。

10.根据权利要求9所述的方法，其中测量指示所述偏振相关特性的图包括：

依序地引导具有不同偏振状态的三个或更多个校准辐射束通过所述光学系统；

对于每个校准辐射束确定从所述光学系统离开的所述校准辐射束的特性的输出图；以及

组合所述输出图以确定指示横跨所述光学系统的光瞳平面的光学系统的偏振相关特性的量值和方向的图。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述光学系统的偏振相关特性包括延迟，并且从所述光学系统离开的校准辐射束的特性的输出图包括波前。

12.根据权利要求11所述的方法，其中使用剪切干涉仪来测量从所述光学系统离开的波前。

13.根据权利要求10所述的方法，其中所述光学系统的偏振相关特性包括双衰减，并且从所述光学系统离开的校准辐射束的特性的输出图包括强度图。

14.根据权利要求10至13中任一项所述的方法，其中所述校准辐射束中的一个或多个具有双极强度分布并且在基本上与平分开所述双极的两个相对扇区的线垂直的方向上被线性地偏振，对于不同校准辐射束的双极的取向是不同的。

15.根据权利要求1所述的方法，其中获得指示所述偏振相关特性的图包括使用建模软件来对所述光学系统对于所述输入辐射束的影响进行建模。

16.根据权利要求1所述的方法，其中获得指示所述偏振相关特性的图包括确定取向泽尼克多项式(OZPs)的线性展开式中的系数。

17.根据权利要求1所述的方法，其中获得指示所述偏振相关特性的图包括从存储器获取所述图。