[发明专利]采用具有可移除接口的电介质导管组件的等离子体生成源以及相关的组件和方法

权利要求书

1.一种等离子体生成系统，所述等离子体生成系统包括：

封闭主体，所述封闭主体形成内部腔室、输入端口和输出端口；以及

电介质导管组件，所述电介质导管组件设置在所述内部腔室中，所述电介质导管组件包括；

第一交叉导管段，所述第一交叉导管段封闭与所述输入端口相邻的第一通道；

第二交叉导管段，所述第二交叉导管段封闭与所述输出端口相邻的第二通道；以及

至少两个平行的导管段，所述至少两个平行的导管段从所述第二交叉导管段延伸至远端，每一个平行的导管段都封闭与所述第二通道连通的内部空间，其中所述第一交叉导管段具有至少两个开口以接收所述平行的导管段的所述远端。

2.如权利要求1所述的等离子体生成系统，其中所述第一交叉导管段、所述第二交叉导管段以及所述至少两个平行的导管段包括包含石英的材料，并且其中所述封闭主体由包括铝的材料形成。

3.如权利要求1所述的等离子体生成系统，其中所述封闭主体的所述输入端口接收可移除输入插塞，所述可移除输入插塞包含传递前体气体的通道，所述输入端口包含允许穿过所述输入端口插入和移除所述第一交叉导管段的尺度。

4.如权利要求1所述的等离子体生成系统，其中所述第一交叉导管段的宽度与所述至少两个平行的导管段的每一个宽度是相同的尺寸。

5.如权利要求1所述的等离子体生成系统，其中所述第一交叉导管段的所述至少两个开口中的每一者都由多个第一表面形成，所述多个第一表面包括两个第一共平面表面，所述第一共平面表面成角度至所述第一交叉导管段的纵轴。

6.如权利要求5所述的等离子体生成系统，

其中所述平行的导管段的所述远端中的每一个远端都由多个次表面形成，所述多个次表面包括两个互补的共平面表面，所述两个互补的共平面表面成角度至所述至少两个平行的导管段的纵轴，并且

其中所述两个互补的共平面表面经配置以支撑所述两个第一共平面表面。

7.如权利要求6所述的等离子体生成系统，其中所述平行的导管段的所述远端中的每一个远端的所述多个次表面进一步包括两个轮廓内侧表面，所述两个轮廓内侧表面连接所述两个互补的共平面表面，所述两个轮廓内侧表面经设置以便当所述两个互补的共平面表面支撑所述两个第一共平面表面时遵循所述第一交叉导管段的内表面的形状。

8.如权利要求6所述的等离子体生成系统，

其中所述多个第一表面进一步包括两个第一内侧表面，所述两个第一内侧表面连接所述两个第一共平面表面的端部且经设置以便当所述两个互补的共平面表面支撑所述两个第一共平面表面时遵循所述至少两个平行的导管段中的相应导管段的外部表面的形状，并且

其中所述至少两个平行的导管段中的所述相应导管段的外部表面的形状与所述至少两个平行的导管段中的所述相应导管段的纵轴是同心的。

9.如权利要求7所述的等离子体生成系统，

其中所述第一交叉导管段的内表面的形状与所述第一交叉导管段的纵轴是同心的，并且

其中所述两个第一内侧表面中的每一个都设置在相应的至少两个平行的导管段的外表面的互补的形状中。

10.如权利要求6所述的等离子体生成系统，其中当所述两个互补的共平面表面支撑所述两个第一共平面表面时，所述平行的导管段的纵轴与所述第一交叉导管段的纵轴正交。

11.如权利要求1所述的等离子体生成系统，其中当由所述第一交叉导管段的所述至少两个开口接收所述至少两个平行的导管段的所述远端时，限制所述第一交叉导管段沿所述第一交叉导管段的纵轴平行地移动。