[发明专利]用于热屏障的微开裂和耐腐蚀性的整体烧结方法有效
申请号: | 201480063452.2 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN105765099B | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
发明(设计)人: | 帕斯卡尔·法布里斯·拜赫;L·P·杜东;帕斯卡尔·杰克斯·雷蒙德·马丁内特 | 申请(专利权)人: | 斯奈克玛 |
主分类号: | C23C4/08 | 分类号: | C23C4/08;C23C4/10;C23C4/134;C23C4/18 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 李雪;姚开丽 |
地址: | 法国*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 屏障 开裂 腐蚀性 整体 烧结 方法 | ||
1.一种用于获得具有横向微裂纹的热屏障的方法,其中,使用等离子弧焊炬通过热喷涂将YSZ类的陶瓷层(C)沉积在粘结底层(BSL)上,所述粘结底层(BSL)自身沉积在要保护的部件上,其特征在于,通过用所述等离子弧焊炬的束流扫描所述陶瓷层(C)进行烧结后处理,在此扫描过程中,所述束流在所述陶瓷层(C)表面上的撞击点的温度为1300℃~1700℃。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在此扫描过程中,所述束流在所述陶瓷层(C)表面上的撞击点的温度为1400℃~1450℃。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,在此烧结后处理过程中,持续测量所述束流在所述陶瓷层(C)表面上的撞击点的温度,并且根据该测量对焊炬参数进行控制。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,用于沉积所述陶瓷层(C)的喷涂粉末是粒径为10μm~60μm的熔合且粉碎型的粉末。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所喷涂的陶瓷层(C)具有小于5%的孔隙率。
6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所喷涂的陶瓷层(C)对所述粘结底层(BSL)具有大于25MPa的粘结力。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,使与所述陶瓷层(C)相反的所述部件的表面冷却,以将与所述陶瓷层(C)相反的所述部件的表面保持在低于950℃的温度下。
8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述陶瓷层(C)在沉积之后微开裂,所述后处理使所述陶瓷层(C)的烧结改进。
9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述后处理在所述陶瓷层(C)上产生横向微裂纹。
10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述部件是涡轮部件。
11.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述后处理步骤中,用所述束流扫描所述陶瓷层(C)的表面,以达到1300℃~1700℃的温度,并持续五秒至二十秒。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
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C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆