[发明专利]EUV投射光刻的照明系统

权利要求书

1.一种EUV投射光刻的照明系统的偏转光学单元(13；35；36；37,38；39；40)

-包含多个偏转反射镜(D1至D4；D1至D5,D1至D6；D1至D8)，EUV辐射(3)以掠入射在共同的偏转入射平面(xz)中连续地照射在所述多个偏转反射镜上，

-其中设置了用于掠入射的至少四个偏转反射镜(D1至D4)，所述至少四个偏转反射镜在所述偏转入射平面(xz)中联合地具有多于70°的偏转效应，

-其中，所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为凸柱形反射镜和/或所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为凹柱形反射镜。

2.如权利要求1所述的偏转光学单元，其特征在于，所述偏转反射镜(D1；D1至D8；D1至D4)的至少之一实施为能以驱动方式位移。

3.如权利要求1或2所述的偏转光学单元，其特征在于，所述偏转反射镜(D1至D8)的至少之一实施为具有以驱动方式可变的曲率半径。

4.一种EUV投射光刻的照明系统的光束引导光学单元(10)，包括如权利要求1至3中任一项所述的偏转光学单元，其特征在于，所述光束引导光学单元(10)包含聚焦组合件(14；41；45；46；49；52；55)，其将光束传输至所述光束引导光学单元(10)的中间焦点(42)。

5.如权利要求4所述的光束引导光学单元(10)，其特征在于，所述聚焦组合件(14；41；45；46；49；52；55)包含至少两个反射镜(47,48；50；51；53,54)，即

-一方面至少一个椭球面反射镜(47；50；54)，以及

-另一方面至少一个抛物面反射镜(53)或至少一个双曲面反射镜(48；51)。

6.一种EUV投射光刻的照明系统，

-包含光束成形光学单元(6)，用于从基于同步加速器辐射的光源(2)的EUV原始光束(4)产生EUV聚集输出光束(7)，

-包含输出耦合光学单元(8)，用于从所述EUV聚集输出光束(7)产生多个EUV单独输出光束(9_i)，

-在各个情况中包含如权利要求4和5中任一项所述的光束引导光学单元(10)，用于引导各EUV单独输出光束(9_i)朝向物场(11)，光刻掩模(12)可布置在所述物场中。

7.如权利要求6所述的照明系统，其特征在于，所述光束成形光学单元(6)实施为产生具有纵横比贡献1的EUV聚集输出光束(7)，其中，所述输出耦合光学单元(8)和所述光束引导光学单元(10)的组合实施为随后产生N个EUV单独输出光束(9₁,9_N)，其具有的纵横比贡献分别为1:1。

8.如权利要求6或7所述的照明系统，包含EUV光源(12)。

9.一种EUV光刻的投射曝光设备(1)，

-包含如权利要求6至8中任一项所述的照明系统，

-包含用于将掩模母版(12)安装在物场(11)中的掩模母版保持器(20)，照明系统的照明光(3)照射在所述掩模母版上，

-包含投射光学单元(19)，用于将照明场(11)成像在像平面(23)中的像场(22)中，

-包含用于将晶片(24)安装在所述像平面(23)中的晶片保持器(25)，使得布置在所述物场(11)中的掩模母版结构在投射曝光期间成像至布置在所述像场(22)中的晶片部分上。

10.一种制造结构化部件的方法，包含以下方法步骤：

-提供掩模母版(12)和晶片(24)，

-借助于如权利要求9所述的投射曝光设备(1)，将所述掩模母版(12)上的结构投射至所述晶片(24)的光敏层上，

-在所述晶片(24)上制造微结构或纳米结构。

11.一种根据如权利要求10所述的方法制造的结构化部件。