[发明专利]用于制造对比度增强支撑体的方法

权利要求书

1.一种用于制造对比度增强支撑体(SAC')的方法，所述对比度增强支撑体包括吸收性基底(SA)，所述吸收性基底承载至少一个吸收性层(CA')，所述方法包括用于所述支撑体的设计步骤以及根据所述设计步骤的支撑体的硬件制造的步骤，其特征在于，所述设计步骤包括下列步骤：

i)选择光照波长λ；

ii)选择构成所述基底的材料，该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率N₃＝n₃-jk₃，其中k₃≥0.01；

iii)选择环境介质，该环境介质在与所述基底相对的侧与所述吸收性层接触，并且在所述光照波长λ下显示出实折射率n₀；

iv)确定所述吸收性层的名义复折射率N₁＝n₁-jk₁和名义厚度e₁，使得所述吸收性层在受到波长为所述光照波长λ的垂直入射的光照时充当防反射层；以及

v)选择构成所述吸收性层的材料，该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率，该复折射率的实部和虚部至多在小于或等于5％的容差下与所述名义复折射率的实部和虚部一致；

其中，在所述步骤iv)中，所述名义复折射率和所述名义厚度选择为满足下列条件：

a)

b)

c)κ₁≤ν₁，以及

d)k₁≥0.15

其中：

-

-以及

-对于i＝0,1,3，

2.根据权利要求1所述的用于制造对比度增强支撑体的方法，其中，在所述步骤ii)中，k₃≥0.1。

3.根据权利要求1所述的用于制造对比度增强支撑体的方法，其中，在所述步骤v)中，选择构成所述吸收性层的材料，该材料在所述光照波长λ下显示出复折射率，该复折射率的实部和虚部至多在小于或等于0.3％的容差下与所述名义复折射率的实部和虚部一致。

4.根据权利要求1所述的用于制造对比度增强支撑体的方法，其中，所述吸收性层由导电材料制备，并且其中，所述基底由半导电材料制备。

5.根据权利要求4所述的用于制造对比度增强支撑体的方法，其中，所述导电材料为金属。

6.根据权利要求1所述的用于制造对比度增强支撑体的方法，其中，所述吸收性层由半导电材料制备，并且其中，所述基底由导电材料制备。

7.根据权利要求6所述的用于制造对比度增强支撑体的方法，其中，所述导电材料为金属。