[发明专利]用于获得与工业过程有关的诊断信息的方法和设备

权利要求书

1.一种涉及光刻过程使用的诊断设备，所述设备包括数据处理设备，所述数据处理设备被编程以执行如下步骤：

-接收用于产品单元组的对象数据，所述产品单元组名义上已经经历相同的光刻过程，用于每一个产品单元的对象数据代表在产品单元上、在跨产品单元空间分布的多个点处测量的一个或多个参数；

-限定多维空间，在所述多维空间中用于所述产品单元中的每一个产品单元的对象数据被表示为矢量；

-执行对对象数据的多变量分析以在所述多维空间中获得一个或多个分量矢量；和

-使用所述分量矢量提取关于光刻过程的诊断信息。

2.根据权利要求1所述的设备，所述设备适于在所述光刻过程包括在衬底形式的产品单元上执行的一个或多个光刻处理步骤的序列的情况下使用，并且所述设备被设置为使得在光刻图案化操作执行中自动进行的测量被捕获和表示在对象数据中。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述测量包括在所述光刻图案化操作的执行中在跨每一个衬底空间分布的位置处自动测量的位置偏差。

4.根据权利要求3所述的设备，其中在所述矢量中，所述位置偏差被相对于由用位置偏差计算的对准模型限定的修正的位置来表达。

5.根据前述权利要求中任一项所述的设备，所述设备被设置为接收重叠、临界尺寸、侧壁角度、晶片品质、聚焦中的一个或多个的空间分布的测量值，用作所述对象数据。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，所述设备被设置为至少部分地通过基于当投影到所述分量矢量中的一个或多个上时某些产品单元的矢量的位置来指定该某些产品单元为感兴趣的产品单元来提取诊断信息。

7.根据权利要求6所述的设备，所述设备被设置为将其矢量在投影到所述分量矢量中的选定的一个上时占据边远位置的那些产品单元指定为感兴趣的产品单元。

8.根据权利要求6所述的设备，其中所述设备被设置为将其矢量占据由所述分量矢量的选定的两个或更多个限定的平面中的边远区域的那些产品单元指定为感兴趣的产品单元。

9.根据权利要求6所述的设备，所述设备进一步被设置为接收代表针对每一个产品单元测量的一个或多个性能参数的性能数据，并且进一步被设置为将分量轴线中的一个或多个指定为感兴趣的，这基于根据它们的矢量在选定的一个轴线或多个轴线上的投影被指定为感兴趣的产品单元和根据所述性能数据被指定为感兴趣的产品单元之间观察到的相关性进行。

10.根据权利要求9所述的设备，所述设备适于在所述光刻过程包括在衬底形式的产品单元上执行的一个或多个光刻处理步骤的序列的情况下使用，其中所述性能参数包括重叠、临界尺寸、侧壁角度、晶片品质、聚焦中的一个或多个。

11.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，所述设备进一步被设置为接收代表应用于每一个独立的产品单元的光刻过程的一个或多个参数的背景数据，并且进一步被编程为使用所述背景数据提取诊断信息。

12.根据权利要求11所述的设备，所述设备被编程为至少部分地通过辨别基于所述分量矢量作为感兴趣的产品单元的认定和背景数据中的一个或多个参数之间的相关性来提取所述诊断信息。

13.根据权利要求11所述的设备，所述设备被编程为通过使用来自所述背景数据的选定的参数显示产品单元的分布的一维或多维图来提取诊断信息，所述产品单元被呈现在所述图中，以使得被指定为感兴趣的产品单元与其它产品单元在视觉上区分。

14.根据权利要求11所述的设备，所述设备适于在所述光刻过程包括在不同的独立的产品单元上通过不同的独立的处理设备执行一个或多个光刻、物理和/或化学操作的情况下使用，并且其中所述背景数据包括辨别用于给定操作的独立的处理设备的至少一个参数。

15.根据权利要求1至4中任一项所述的设备，所述设备被编程为至少部分地通过比较代表在所述光刻过程中在不同阶段的特定的产品单元的矢量来提取诊断信息。