[发明专利]用于对发光二极管的集合进行辐照度控制的系统和方法有效
申请号: | 201480064438.4 | 申请日: | 2014-11-14 |
公开(公告)号: | CN105766061B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | S·W·克斯特列 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | H05B33/08 | 分类号: | H05B33/08;A61N5/06 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 发光二极管 集合 进行 辐照 控制 系统 方法 | ||
1.一种调节被供应到光源的功率量的系统(10),包括:
光源的集合(11),其被配置为发射电磁辐射(12),其中,所述集合中的每个光源均是被配置为提供光治疗的发光二极管(LED);
光传感器(142),其被配置为生成输出信号,所述输出信号传达与由来自所述光源的集合的光源的子集发射的电磁辐射的辐照度水平有关的信息,其中,所述光源的子集是所述光源的集合的一部分;以及
一个或多个处理器(110),其被配置为:
获得针对对象的电磁辐射的推荐的治疗方案,
确定由所述光源的子集发射的电磁辐射的辐照度参数,其中,所述辐照度参数基于所生成的输出信号;并且
调节被供应到所述光源的集合的功率量,其中,调节基于所述推荐的治疗方案和所确定的由所述光源的子集发射的电磁辐射的辐照度参数。
2.根据权利要求1所述的系统,所述对象是婴儿,其中,所述光源的集合被布置在光治疗面板(15)中,所述光治疗面板被配置为响应于所述系统被布置为适当接近所述婴儿而向所述婴儿提供光治疗以对黄疸进行处置。
3.根据权利要求1所述的系统,还包括:
电源(30),其在激活时向所述光源的集合供应电流量,其中,所述一个或多个处理器被配置为通过调节被供应到所述光源的集合的所述电流量来调节所述功率量,以将所述辐照度参数维持在对应于所述推荐的治疗方案的水平处。
4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述光源的子集包括少于三个发光二极管(LED),其中,所述光源的集合包括多于三个发光二极管,其中,所述光传感器包括被安装在所述少于三个发光二极管(LED)中的个体发光二极管的顶部上的光二极管,并且其中,所述一个或多个处理器还被配置为使得由被供应到所述光源的集合的所述功率量的增大来抵消所确定的辐照度参数的减小。
5.根据权利要求3所述的系统,还包括:
指示器(25),其被配置为指示通知,其中,所述通知包括电磁辐射的发射,
其中,所述一个或多个处理器还被配置为确定是否应当更换所述光源的集合,其中,所述确定是否应当更换所述光源的集合基于所述辐照度参数和在所述系统的操作期间被供应到所述光源的集合的所述电流量的组合,
其中,所述通知反映是否应当更换所述光源的集合的所述确定。
6.一种调节被供应到光源的功率量的方法,所述方法包括:
激活光源的集合,其中,所述集合中的每个光源均是被配置为提供光治疗的发光二极管(LED);
由所述光源的集合响应于激活而发射电磁辐射;
生成输出信号,所述输出信号传达与由来自所述光源的集合的光源的子集发射的电磁辐射的辐照度水平有关的信息,其中,所述光源的子集是所述光源的集合的一部分;
获得针对对象的电磁辐射的推荐的治疗方案;
确定由所述光源的子集发射的电磁辐射的辐照度参数,其中,所述辐照度参数基于所述输出信号;并且
调节被供应到所述光源的集合的功率量,其中,调节基于所述推荐的治疗方案和所确定的由所述光源的子集发射的电磁辐射的辐照度参数。
7.根据权利要求6所述的方法,所述对象是婴儿,所述方法还包括:
将所述光源的集合布置在光治疗面板中,
其中,发射所述电磁辐射响应于所述光源的集合被布置为适当接近所述婴儿而向所述婴儿提供光治疗以对黄疸进行处置。
8.根据权利要求6所述的方法,还包括:
在激活时向所述光源的集合供应电流量,
其中,调节所述功率量包括调节被供应到所述光源的集合的所述电流量,以将所述辐照度参数维持在对应于所述推荐的治疗方案的水平处。
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