[发明专利]平版印刷版原版和单体有效
申请号: | 201480067640.2 | 申请日: | 2014-12-10 |
公开(公告)号: | CN105793041B | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
发明(设计)人: | M.斯蒂纳克斯;J.洛库菲尔;S.维布鲁格赫 | 申请(专利权)人: | 爱克发有限公司 |
主分类号: | B41C1/10 | 分类号: | B41C1/10;G03F7/004;C07C233/20 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 周李军,赵苏林 |
地址: | 比利时*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平版印刷 原版 单体 | ||
发明领域
本发明涉及新型单体和阴图制版的平版印刷版原版。
发明背景
平版印刷使用所谓的印刷母版印刷,例如安装在印刷机的滚筒上的印刷版。所述母版在其表面上携带有平版图像,和通过将油墨施用至所述图像然后将油墨从母版转移至接收材料(通常为纸)上获得印刷品。在常规的所谓“湿式”平版印刷中,油墨以及水性润版液(也称为润湿液)提供至平版图像,其由亲油(或疏水,即接受油墨,排斥水)区域以及亲水(或疏油,即接受水,排斥油墨)区域组成。在所谓的平版印刷中,平版图像由接受油墨和不粘着油墨(排斥油墨)的区域组成,和在平版印刷期间,仅将油墨提供至母版。
所谓“模拟”印刷版通常通过以下获得:首先应用所谓的计算机直接制片(CtF)方法,其中不同的印刷前步骤例如字体选择、扫描、分色、筛选、陷印、布局和整版为数字完成,且各个颜色选择使用照排机转移至印刷胶片上。处理之后,胶片可用作掩模用于称为印版原版的成像材料的曝光,和版处理之后,获得可用作母版的印刷版。自从约1995年,所谓的“计算机直接制版”(CtP)方法已获得大量关注。该方法,也称为“直接制版”,避免产生胶片,因为数字文件通过印版照排机直接转移至印刷版原版。用于CtP的印刷版原版通常称为数字版。
平版印刷版的载体通常为铝载体,其具有亲水表面或在其上设置有亲水层。该亲水表面和/或层应改善平版印刷版的非印刷区域的水接受性和这些区域内的印刷油墨排斥性。在显影期间,涂层的可溶性部分应易于移除,由此载体的表面保持无残留物,使得在印刷期间获得清洁的背景区域。
数字版可大致分为三类:
(i)银版,根据银盐扩散转印机理工作;(ii)光聚合物版,包含在曝光后硬化的可光聚合组合物,和(iii)热版,其成像机理通过加热或光热转化触发。
光聚合物印刷版依赖于工作机理,由此通常包括自由基可聚合化合物的涂层在曝光后硬化。“硬化”是指涂层在显影液中变得不可溶或不可分散和可通过曝光后感光涂层的聚合和/或交联实现。光聚合物版原版可对以下光敏感:蓝光、绿光和红光,即波长为450-750nm,紫光,即波长为350-450nm,红外光,即波长为750-1500nm。任选地,曝光步骤后面有加热步骤,以增强或加速聚合和/或交联反应。光聚合物版的印刷寿命与光聚合层内的粘结强度有关。粘结强度越高,印刷寿命越长。粘结强度可优选地通过增加交联度和/或通过超分子非共价相互作用(例如H键、范德华相互作用和偶极-偶极相互作用)提高。
通常,需要在可成像层上的顶层或保护性外涂层以作为氧屏障,为版提供期望的感光度。顶层通常包括水溶性或水溶胀性聚合物,例如聚乙烯醇。除作为氧屏障以外,顶层应最好在处理期间容易移除且足够透过光化辐射,例如300-450nm或450-750nm或750-1500nm。
光聚合物版的经典工艺流程包括首先在紫光或红外线印版照排机中光聚合物印刷版原版的曝光步骤,后接任选的预热步骤、保护性外涂层的冲洗步骤、碱性显影步骤与漂洗和上胶步骤。在过去的数年,在简化工艺流程的方向上有明显的改进,其中消除了预热步骤和/或冲洗步骤和其中处理及上胶步骤作为一个单步实施。然而,用所谓的显影/胶溶液(其通常具有比常规碱性显影剂溶液更低的pH)使光聚合物版显影变得关键得多。事实上光聚合物版通常包括相当疏水的单体和/或聚合粘结剂以便获得在印刷中足够的平版间距(lithographic latitude)。在印刷中足够的平版间距是指该版在印刷时在成像和非成像区域之间的油墨接受性保持明显的区别。然而,由于胶溶液中这些疏水组分的有限溶解度,需要相当大量的表面活性剂以将这些疏水化合物分散在胶溶液中。这通常导致胶溶液粘度的不可接受的增加,导致版偏差和在版上形成厚的上胶层。减少表面活性剂的量导致在分批处理机中不可接受的形成淤浆、版上的斑点和清理单元中的沉积物,且这已经在低消耗水平。虽然在光聚合物版涂层中更多亲水单体或聚合粘结剂的使用改善了版的上胶可加工性和消耗特性,其还导致印刷中不可接受的模糊。因此,在阴图制版感光平版印刷版中急需以下单体和/或粘合剂,其提供印刷中良好的平版间距和加强的可上胶加工性,和其使在处理期间在显影液中淤浆和沉淀物和/或沉积材料的形成最小化乃至避免形成。
US 4,782,005公开了包含丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯、光引发剂和少量添加剂N,N'-二金属有机二甲酰胺的辐射敏感组合物。辐射敏感组合物对紫外光敏感和N,N'-二金属有机二甲酰胺以1-10重量%的较少的量存在于组合物中。
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