[发明专利]辐射源、量测设备、光刻系统和器件制造方法

权利要求书

1.一种辐射源设备，包括：

容器，其包括用于限定用于容纳气体介质的空间的壁，其中，发射等离子体发射辐射的等离子体在通过驱动辐射激发所述气体介质之后生成；以及

热负荷施加器，其适于将热负荷应用到所述容器的所述壁的至少一部分以减少所述壁中的应力。

2.根据权利要求1所述的辐射源设备，其中所述热负荷施加器适于对所述容器的所述壁的至少一部分进行加热。

3.根据权利要求1或2所述的辐射源设备，其中所述热负荷施加器是被动式部件。

4.根据权利要求1或2所述的辐射源设备，其中所述热负荷施加器包括反射器，所述反射器用于将从所述容器所发射的所述辐射的一部分反射回到所述容器的所述壁的所述至少一部分。

5.根据权利要求4所述的辐射源设备，其中所述反射器具有比所述容器的上壁更靠近所述容器的下壁的焦点。

6.根据权利要求4所述的辐射源设备，其中所述反射器是凸面的。

7.根据权利要求1或2所述的辐射源设备，其中所述热负荷施加器包括所述容器的所述壁的所述至少一部分上的涂层，所述涂层吸收等离子体发射辐射从而对所述壁的所述至少一部分进行加热。

8.根据权利要求1或2所述的辐射源设备，其中所述热负荷施加器是主动式部件。

9.根据权利要求1或2所述的辐射源设备，其中所述热负荷施加器是加热器。

10.根据权利要求9所述的辐射源设备，其中所述加热器适于比所述容器的上壁更多地加热所述容器的下壁。

11.根据权利要求9所述的辐射源设备，其中所述加热器是辐 射源。

12.根据权利要求9所述的辐射源设备，其中所述加热器通过传导对所述容器的下壁进行加热。

13.根据权利要求12所述的辐射源设备，其中所述加热器是电阻加热器。

14.根据权利要求9所述的辐射源设备，还包括用于在所述辐射源设备的操作之前在激励所述等离子体时使用的、定位在所述等离子体的相对侧的所述空间中的两个或更多电极，并且其中所述加热器适于通过从所加热的所述电极到所述壁的所述至少一部分的热的传导对所述电极和所述壁的所述至少一部分进行加热。

15.根据权利要求14所述的辐射源设备，其中所述加热器是电感加热器。

16.根据权利要求1或2所述的辐射源设备，其中所述热负荷施加器适于对所述容器的所述壁的至少一部分进行冷却。

17.根据权利要求16所述的辐射源设备，其中所述热负荷施加器适于抵靠所述容器的所述壁中的上壁引导气体流动从而将冷却负荷应用到所述上壁。

18.根据权利要求1或2所述的辐射源设备，还包括：

驱动系统，其用于生成所述驱动辐射并且将所述驱动辐射形成为聚焦在所述容器内的等离子体形成位置上的至少一个光束，以及

收集光学系统，其用于收集等离子体发射辐射并且将所述等离子体发射辐射形成为至少一个辐射束。

19.根据权利要求18所述的辐射源设备，其中所述驱动系统包括用于生成所述驱动辐射的至少一个激光器。

20.根据权利要求18所述的辐射源设备，其中，所述驱动辐射具有在第一范围内的波长，并且所述等离子体发射辐射具有在与所述第一范围不同的第二范围内的波长。

21.根据权利要求20所述的辐射源设备，其中所述驱动辐射具有红外波长。

22.根据权利要求20所述的辐射源设备，其中所述等离子体发射辐射具有可见和/或紫外波长。

23.一种用于测量衬底上的结构的特性的检查设备，所述设备包括：

用于所述衬底的支撑件，所述衬底上面具有所述结构；

光学系统，其用于在预定的照明条件下照射所述结构并且用于在所述照明条件下检测由部件目标结构所衍射的辐射的预定的部分；

处理器，其被布置为处理表征所检测的所述辐射的信息以获得所述结构的所述特性的测量，

其中所述光学系统包括根据权利要求1至22中的任一项所述的辐射源设备。