[发明专利]具有传感器组装件的带电粒子光刻系统

权利要求书

1.一种用于将图案转移到目标上的带电粒子光刻系统，所述系统包括：

目标定位设备，所述目标定位设备包括具有用于支托所述目标的第一侧的目标支托架；

带电粒子光学单元，所述带电粒子光学单元用于生成带电粒子束、调制所述带电粒子束、并且将所述带电粒子束引向所述目标支托架的所述第一侧；以及

用于确定所述带电粒子束的特性的传感器组装件，所述传感器组装件包括：转换器元件，所述转换器元件用于将撞击在所述转换器元件上的带电粒子转换成光，其中所述转换器元件被布置在所述目标定位设备上；光传感器，所述光传感器用于检测所述光，其中所述光传感器被布置在离所述目标定位设备的一距离处；以及光学透镜，所述光学透镜被布置在所述转换器元件和所述光传感器之间以用于将源自所述转换器元件的光引向所述传感器；

其中所述转换器元件可以独立于所述光传感器移动。

2.根据权利要求1所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述透镜被布置成将所述转换器元件基本面向所述带电粒子光学单元的一侧的图像投射到所述光传感器上。

3.根据权利要求1或2所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述光传感器包括像素化的传感器。

4.根据权利要求1或2所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述带电粒子光学单元被布置在所述目标支托架的第一侧，其中所述光学透镜和所述光传感器被布置在所述目标支托架的第二侧，并且其中所述第二侧与所述第一侧基本相对。

5.根据权利要求1或2所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述带电粒子光学单元限定光轴，其中所述光学透镜和所述光传感器被布置在所述光轴上。

6.根据权利要求1所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述目标支托架和所述带电粒子光学单元至少部分地被布置在真空腔内部，并且其中所述真空腔包括延伸到所述真空腔内部的隔室，其中所述隔室的内部与所述真空腔的内部分隔，其中所述隔室在面向所述目标支托架的一侧包括窗口，并且其中至少所述光学透镜被布置在所述隔室内部。

7.根据权利要求6所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述传感器也被布置在所述隔室内部。

8.根据权利要求6所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述隔室的内部对所述真空腔的外部基本敞开。

9.根据权利要求6所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述隔室被布置在所述真空腔的壁中的开口中。

10.根据权利要求9所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，进一步包括基本包围所述隔室与所述真空腔的所述壁相邻的部分的管部件，其中所述管部件沿着所述隔室在相对于所述真空腔向外的方向上延伸，其中所述管部件至少包括μ金属层或坡莫合金层。

11.根据权利要求10所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述管部件沿着所述隔室延伸到所述真空腔的内部，其中所述管部件包括被排列在所述真空腔的内部并且在所述真空腔的所述壁中的所述开口周围与所述真空腔的所述壁基本平行地延伸的径向延伸凸缘。

12.根据权利要求11所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述真空腔的所述壁被设置有面向所述真空腔的内部的屏蔽件，并且其中径向延伸凸缘在所述真空腔的所述壁中的所述开口周围至少部分地覆盖所述屏蔽件，其中所述屏蔽件被布置在所述径向延伸凸缘和所述真空腔的所述壁之间。

13.根据权利要求9-12中的任一项所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述隔室包括被布置成连接到所述真空腔的所述壁以提供真空密封的法兰部件。

14.根据权利要求13所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，法兰环被布置在所述真空腔的所述壁和所述法兰部件之间，其中所述法兰环包括至少一层μ金属或坡莫合金。

15.根据权利要求14所述的带电粒子光刻系统，其特征在于，所述法兰环包括基本包围所述隔室与所述真空腔的所述壁相邻的部分的管部件，其中所述管部件沿着所述隔室在相对于所述真空腔向外的方向上延伸，其中所述管部件包括至少一层μ金属或坡莫合金。