[发明专利]用于亚20nm特征的均匀压印图案转移的方法有效
| 申请号： | 201480071486.6 | 申请日： | 2014-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN106030406B | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 叶正茂;D·L·拉布拉克 | 申请（专利权）人： | 佳能纳米技术公司;分子制模股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;郭辉 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 20 nm 特征 均匀 压印 图案 转移 方法 | ||
【说明书】：
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