[发明专利]用于测量衬底上的结构的方法和设备、用于误差校正的模型、用于实施这样的方法和设备的计算机程序产品

权利要求书

1.一种测量衬底上的结构的参数的方法，所述方法包括如下步骤：

(a)定义数学模型，在所述数学模型中所述结构的形状和材料性质由包括至少一个感兴趣的参数的多个参数代表；

(b)用辐射照射所述结构并且检测由于所述辐射与所述结构之间的相互作用而产生的信号；

(d)通过在使所述感兴趣的参数变化并且使至少一个其他参数不变化的情况下模拟所述辐射与所述数学模型之间的相互作用，计算多个模型信号；

(e)通过在使所述其他参数根据假定的统计行为变化的情况下模拟所述辐射与所述数学模型之间的相互作用，计算对于所述其他参数的影响的模型；

(f)在使用所述影响的模型来抑制所述其他参数的在所述模型信号中没有被代表的变化的影响的情况下，计算在检测到的信号与在步骤(d)中计算的模型信号中的至少一些之间的匹配的程度；

(g)基于计算的所述匹配的程度报告所述感兴趣的参数的测量。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述影响的模型提供加权矩阵，通过所述加权矩阵在检测到的信号与模型信号之间的所述匹配的程度与所述信号的一些部分相比更取决于其他部分。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述检测到的信号是通过角分辨散射测量得到的二维衍射图案，并且所述加权矩阵针对所述衍射图案中的一些像素定义了比其他像素低的权重，以计算所述匹配的程度。

4.根据任一前述权利要求所述的方法，其中所述影响的模型提供了在计算匹配的程度之前被从所述检测到的信号减去的均值误差信号。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述检测到的信号是通过角分辨散射测量得到的二维衍射图案，并且所述影响的模型提供了均值误差矩阵，由此在计算所述匹配的程度之前不同的误差值被从所述二维衍射图案的不同像素减去。

6.根据权利要求1-3中的任一项所述的方法，其中所述其他参数是在步骤(a)中建模的所述结构的所述形状或材料的参数。

7.根据权利要求1-3中的任一项所述的方法，其中所述其他参数是用于在步骤(b)中获得所述检测到的信号的检测设备的参数。

8.根据权利要求1-3中的任一项所述的方法，其中多个感兴趣的参数在步骤(d)中被改变并且在步骤(g)中被报告。

9.根据权利要求1-3中的任一项所述的方法，其中多个其他参数在步骤(d)中被固定并且在步骤(e)中被改变。

10.根据权利要求1-3中的任一项所述的方法，其中所述步骤(d)和所述步骤(f)在迭代循环中通过回归执行以找到所述感兴趣的参数的值，而不重新计算所述影响的模型。

11.根据权利要求1-3中的任一项所述的方法，其中所述步骤(d)和所述步骤(f)在迭代循环中通过回归执行以找到所述感兴趣的参数的值，并且其中所述影响的模型在所述循环的一个或多个迭代之后被重新计算以考虑所述感兴趣的参数中的更新。

12.根据权利要求1-3中的任一项所述的方法，其中所述影响的模型包括用于多个其他参数的与所述假定的统计行为的模型组合的一个或多个雅可比矩阵。

13.根据权利要求1-3中的任一项所述的方法，其中所述假定的统计行为的模型包括用于所述其他参数的标称值和方差。

14.一种用于测量衬底上的结构的参数的检查设备，所述设备包括：

-用于衬底的支撑，所述衬底具有在所述衬底上形成的所述结构；

-光学系统，用于用辐射照射所述结构并且检测由于所述辐射与所述结构之间的相互作用而产生的信号；

-处理器，被布置成：通过模拟所述辐射与数学模型之间的相互作用计算多个模型信号，在所述数学模型中所述结构的形状和材料性质由包括至少一个感兴趣的参数的多个参数代表；计算所述检测到的信号与所计算的模型信号中的至少一些之间的匹配的程度；和基于所计算的匹配的程度报告所述感兴趣的参数的测量，

其中所述处理器被布置成在使所述感兴趣的参数变化并且使至少一个其他参数不变化的情况下计算所述多个模型信号，并且其中所述处理器被进一步布置成当计算所述匹配的程度时使用影响的模型来抑制所述其他参数的可能存在于所述检测到的信号中但是在所述模型信号中没有被代表的变化的影响。