[发明专利]制造纳米线器件的内部间隔体的集成方法有效
申请号: | 201480076297.8 | 申请日: | 2014-03-24 |
公开(公告)号: | CN106030815B | 公开(公告)日: | 2020-01-21 |
发明(设计)人: | S·金;D·A·西蒙;K·J·库恩;C·W·沃德 | 申请(专利权)人: | 英特尔公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L21/336;H01L21/764 |
代理公司: | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 林金朝;王英 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 纳米 器件 内部 间隔 集成 方法 | ||
【说明书】:
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