[发明专利]分析方法、分析装置及分析程序

权利要求书

1.一种分析方法，其特征在于，包括如下工序：

准备将第1邻苯二甲酸酯和第2邻苯二甲酸酯分别附着于一对第1基底膜和第2基底膜，使所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯成为彼此不同的状态的第1试样和第2试样的工序，

对所述第1试样和所述第2试样分别照射电磁波，取得第1光谱和第2光谱的工序，

其中，所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯的所述不同状态，是因通过将所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯附着于所述第1基底膜和所述第2基底膜而成为与单体不同的状态以及相对于所述第1基底膜和所述第2基底膜的吸收的状态为不同而产生的。

2.根据权利要求1所述的分析方法，其特征在于，准备所述第1试样和所述第2试样的工序中，准备所述第1邻苯二甲酸酯被吸收于所述第1基底膜的内部的状态的所述第1试样和所述第2邻苯二甲酸酯残留于所述第2基底膜的表面的状态的所述第2试样。

3.根据权利要求1所述的分析方法，其特征在于，包括如下工序：

准备第3试样的工序，所述第3试样是将判定与所述第1邻苯二甲酸酯或所述第2邻苯二甲酸酯的一致性的判定对象物质附着于与所述第1基底膜和所述第2基底膜同种的第3基底膜而成的，

对所述第3试样照射电磁波而取得第3光谱的工序，

使用所述第1光谱、所述第2光谱及所述第3光谱来判定所述判定对象物质的、与所述第1邻苯二甲酸酯或所述第2邻苯二甲酸酯的一致性的工序。

4.根据权利要求3所述的分析方法，其特征在于，判定所述一致性的工序包括如下工序：

使用各基准线和通用的基准峰位置的强度，对所述第1光谱、所述第2光谱以及所述第3光谱进行标准化的工序，

生成已标准化的所述第1光谱与所述第2光谱的具有强度差的彼此的第1峰位置的强度的第1中间值的工序，

判定已标准化的所述第3光谱的所述第1峰位置的强度的相对于所述第1中间值的大小的工序，

基于相对于所述第1中间值的大小，判定所述判定对象物质的所述一致性的工序。

5.根据权利要求4所述的分析方法，其特征在于，判定所述一致性的工序进一步包括：

生成已标准化的所述第1光谱和所述第2光谱的具有强度差的彼此的第2峰位置的强度的第2中间值的工序，

判定已标准化的所述第3光谱的所述第2峰位置的强度的相对于所述第2中间值的大小的工序，

基于相对于所述第1中间值的大小和相对于所述第2中间值的大小，判定所述判定对象物质的所述一致性的工序。

6.根据权利要求3～5中任一项所述的分析方法，其特征在于，取得所述第1光谱、所述第2光谱以及所述第3光谱的工序包括如下工序：

将分别对所述第1试样、所述第2试样以及所述第3试样照射电磁波而测定的光谱群与对所述第1基底膜或所述第2基底膜照射电磁波而测定的空白光谱的差示光谱群，分别作为所述第1光谱、所述第2光谱以及所述第3光谱而取得的工序。

7.根据权利要求3～5中任一项所述的分析方法，其特征在于，准备所述第3试样的工序包括如下工序：

使对含有所述判定对象物质的第4试样进行加热而生成的所述判定对象物质的蒸汽附着于所述第3基底膜的工序。

8.一种分析装置，其特征在于，包括：

取得第1光谱和第2光谱的第1取得部，所述第1光谱和第2光谱是对将第1邻苯二甲酸酯和第2邻苯二甲酸酯分别附着于一对第1基底膜和第2基底膜并使所述第1邻苯二甲酸酯和所述第2邻苯二甲酸酯成为彼此不同的状态的第1试样和第2试样分别照射电磁波而测定的，

取得第3光谱的第2取得部，所述第3光谱是对将判定与所述第1邻苯二甲酸酯或所述第2邻苯二甲酸酯的一致性的判定对象物质附着于与所述第1基底膜和所述第2基底膜同种的第3基底膜的第3试样照射电磁波而测定的，

第1判定部，使用由所述第1取得部取得的所述第1光谱和所述第2光谱以及由所述第2取得部取得的所述第3光谱来判定所述判定对象物质的、与所述第1邻苯二甲酸酯或所述第2邻苯二甲酸酯的一致性。