[发明专利]固定位置控制装置以及方法

权利要求书

1.一种固定位置控制装置，其特征在于，具备：

照射光学系统，能同时进行多个激励光的照射；

检测器，进行通过所述激励光照射而从照射位置产生的信号的检测；

基板，设置至少一个纳米细孔和至少一个基准对象；以及

位置控制部，向位于所述纳米细孔的测定样品和所述基准对象同时照射所述激励光，根据从所述基准对象得到的所述信号，运算所述激励光照射向所述测定样品的位置，并基于该运算结果来控制针对所述测定样品的激励光照射的位置，

在进行所述激励光照射的位置控制的同时进行针对所述测定样品的测定，

在进行针对所述测定样品的测定的同时，使用通过所述激励光照射而发出的所述基准对象的光谱，来校正所述检测器的图像元件的信息，

向所述基准对象照射光斑直径比向所述测定样品照射的所述激励光的光斑直径小的激励光。

2.根据权利要求1所述的固定位置控制装置，其特征在于，

所述位置控制部，

针对所述测定样品以及所述基准对象的位置，对所述激励光的光斑位置进行扫描，

根据从所述基准对象得到的所述信号，运算所述测定样品被强烈照射激励光的位置，并根据运算结果将针对所述测定样品的所述光斑位置控制在期望的位置。

3.根据权利要求2所述的固定位置控制装置，其特征在于，

所述位置控制部，

根据规定的温度变化的检测，开始所述激励光的光斑位置的扫描，将所述光斑位置控制在期望的位置。

4.一种固定位置控制方法，其特征在于，

对基板上的至少一个纳米细孔和至少一个基准对象，同时进行激励光的照射，

基于由检测器检测的从所述基准对象产生的信号，运算所述激励光照射向位于所述纳米细孔的测定样品的位置，

在基于该运算结果来控制针对所述测定样品的激励光照射的位置的同时，进行所述测定样品的测定，

在进行针对所述测定样品的测定的同时，根据事先取得的所述基准对象的位置和信号强度的信息以及从所述基准对象得到的所述信号的增减来运算漂移量以及漂移方向，将所述激励光的光斑位置控制在期望的位置，

针对所述测定样品以及所述基准对象的位置，对所述激励光的光斑位置进行扫描，

根据从所述基准对象得到的所述信号，运算所述测定样品被强烈照射激励光的位置，并根据运算结果将针对所述测定样品的所述光斑位置控制在期望的位置，

向所述基准对象照射光斑直径比向所述测定样品照射的所述激励光的光斑直径小的激励光。

5.根据权利要求4所述的固定位置控制方法，其特征在于，

根据规定的温度变化的检测，开始所述激励光的光斑位置的扫描，将所述光斑位置控制在期望的位置。

6.一种固定位置控制装置，其特征在于，具备：

照射光学系统，能同时进行多个激励光的照射；

检测器，进行通过所述激励光照射而从照射位置产生的信号的检测；

基板，设置至少一个纳米细孔和至少一个基准对象；以及

位置控制部，向位于所述纳米细孔的测定样品和所述基准对象同时照射所述激励光，根据从所述基准对象得到的所述信号，运算所述激励光照射向所述测定样品的位置，并基于该运算结果来控制针对所述测定样品的激励光照射的位置，

在进行所述激励光照射的位置控制的同时，进行针对所述测定样品的测定，向所述基准对象照射光斑直径比向所述测定样品照射的所述激励光的光斑直径小的激励光。