[发明专利]制作三维对象

权利要求书

1.一种制作三维对象的方法，包括：

沉积建构材料的层；

根据三维模型数据的切片将聚结剂沉积到所述建构材料的层上；以及

用微波辐射照射所述聚结剂，使得所述聚结剂将所述微波辐射转化成热量以聚结所述建构材料，所述聚结剂被沉积在所述建构材料中，

其中，照射所述聚结剂包括：在用相对更强的第二微波辐射照射所述聚结剂以完全聚结所述建构材料之前，用第一微波辐射照射所述聚结剂以部分聚结所述建构材料，

其中，用所述第一微波辐射照射在每个独立的建构材料的层中的所述聚结剂，并且用所述第二微波辐射来一起照射在所有的所述建构材料的层中的所述聚结剂。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述建构材料对于所述辐射是基本通透的。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，在沉积后续的建构材料和聚结剂的层之前照射每个建构材料的层中的所述聚结剂。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，在照射各层之前在每个建构材料的层中沉积所述聚结剂以用于整个所述三维对象。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述建构材料包括陶瓷、玻璃和金属氧化物中的任意一种。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述聚结剂包括炭黑、石墨和金属纳米颗粒中的任意一种。

7.一种增材制造系统，包括：增材制造设备和微波辐射源；

所述增材制造设备包括处理器和聚结剂沉积器；

所述处理器控制所述聚结剂沉积器根据三维模型数据将聚结剂沉积到建构材料的层上；并且

所述处理器控制所述微波辐射源用微波辐射照射所述聚结剂，使得所述聚结剂将所述微波辐射转化成热量以聚结所述建构材料，所述聚结剂被沉积在所述建构材料中，

其中，照射所述聚结剂包括：在用相对更强的第二微波辐射照射所述聚结剂以完全聚结所述建构材料之前，用第一微波辐射照射所述聚结剂以部分聚结所述建构材料，

其中，用所述第一微波辐射照射在每个独立的建构材料的层中的所述聚结剂，并且用所述第二微波辐射来一起照射在所有的所述建构材料的层中的所述聚结剂。

8.根据权利要求7所述的系统，其中，所述处理器控制所述沉积器和所述辐射源在照射聚结剂之前将所述聚结剂沉积在每个建构材料的层上，以用于整个三维对象。

9.根据权利要求7所述的系统，其中，所述建构材料包括陶瓷粉末。

10.一种用于产生三维对象的装置，包括：

聚结剂沉积器；

微波辐射源；

处理器；以及

数据存储设备，通信地联接到所述处理器；

所述处理器执行计算机代码来控制所述聚结剂沉积器以根据存储在所述数据存储设备中的三维模型数据将一些聚结剂沉积到建构材料的层上，所述建构材料对于所述微波辐射源是通透的；并且

所述处理器执行计算机代码来控制所述微波辐射源照射所述聚结剂，使得所述聚结剂将所述微波辐射转化成热量以聚结所述建构材料，所述聚结剂被沉积在所述建构材料中，

其中，照射所述聚结剂包括：在用相对更强的第二微波辐射照射所述聚结剂以完全聚结所述建构材料之前，用第一微波辐射照射所述聚结剂以部分聚结所述建构材料，

其中，用所述第一微波辐射照射在每个独立的建构材料的层中的所述聚结剂，并且用所述第二微波辐射来一起照射在所有的所述建构材料的层中的所述聚结剂。

11.根据权利要求10所述的装置，其中，所述建构材料包括陶瓷、玻璃和金属氧化物中的任意一种。

12.根据权利要求10所述的装置，其中，所述聚结剂包括炭黑、石墨和金属纳米颗粒中的任意一种。

13.根据权利要求10所述的装置，其中，每个聚结剂和建构材料的层在各层被照射之前被沉积以用于整个所述三维对象。