[发明专利]粒子射线照射设备有效
申请号: | 201480083323.X | 申请日: | 2014-11-28 |
公开(公告)号: | CN107077904B | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 大谷利宏;岩田高明 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | G21K5/04 | 分类号: | G21K5/04;A61N5/10;H01F7/20;H05H7/04;H05H7/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 张鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粒子 射线 照射 设备 | ||
本发明的粒子射线照射设备(100)中,控制部(2)在最初对准时,将摄像机(10(10‑1、10‑2、…、10‑n))获取到的电磁体(1(1A、1B))的位置信息作为基准位置的位置信息存储到存储部(3)中,基于存储在存储部(3)中的基准位置的位置信息,并根据重新对准时由摄像机(10(10‑1、10‑2、…、10‑n))获取到的电磁体(1(1A、1B))的位置信息来获取位移量。
技术领域
本发明涉及一种能高精度地对粒子射线照射装置所使用的电磁体的位置和姿态等进行控制的粒子射线照射设备。
背景技术
以往的粒子射线照射装置中,同步加速器等加速器与治疗室通常存在于同一平面上。近年来,伴随着粒子射线照射装置的大型化,外界气温的季节变动、地面下沉等地壳运动引起的建筑物的变形会导致对准变差,照射射束达不到规定的性能,因此,作为对策,需要在粒子射线照射装置的使用过程中,按照季节变更运行参数,或定期实施电磁体等的位置和姿态等的重新调整。在安装粒子射线照射装置时,作为对准的方法,公开了预先计算与成为建筑物内或装置上的基准点、即设定位置的偏移量来进行对准(例如参照专利文献1和专利文献2)。另一方面,在与医院等相邻的狭小的土地上建造粒子射线照射设施的情况下,倾向于采用将加速器和治疗室配置成上下关系的结构等(例如参照专利文献3)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特开2006-344466号公报(0024段、图2)
专利文献2:日本专利特开2006-302818号公报(0025段、图2)
专利文献3:日本专利特开2011-182987号公报(0032段、图1)
发明内容
发明所要解决的技术问题
在将加速器和治疗室配置成上下关系的情况下,存在建筑物的结构会复杂、季节之间的温度变化等引起的建筑物的变形变大的问题。尤其是,在将加速器或射束输送系统装置配置于治疗室上部的情况下,存在如下问题:设置装置的地板与通过地面改良或打桩进行了强化的建筑物基础部分离,在设置装置的地板的下部存在治疗室等的空间,因此该变形更为显著。此外,在射束输送系统装置中,对射束的输送进行控制的电磁体分别设置于不同的地板,因此存在难以高精度地控制电磁体的相对位置和姿态的问题。
本发明为了解决上述课题而完成,其目的在于提供一种粒子射线照射设备,不仅在粒子射线照射装置的加速器等与治疗室存在于同一平面上的情况,在配置成上下关系的情况下,也能进行高精度的射束照射。
解决技术问题的技术方案
本发明的粒子射线照射设备包括:第一电磁体,该第一电磁体设置在高能射束照射系统线的上游侧;第二电磁体,该第二电磁体设置在高能射束照射系统线的下游侧;位置信息获取单元,该位置信息获取单元获取第一电磁体与第二电磁体的位置信息;存储部,该存储部预先存储最初对准时的第一电磁体与第二电磁体的位置信息来作为基准位置信息;调整机构,该调整机构对第一电磁体以及第二电磁体的位置和姿态进行调整;以及控制部,该控制部基于存储在存储部中的基准位置信息,根据在重新对准时由位置信息获取单元获取到的第一电磁体和第二电磁体的位置信息来计算从最初对准时到重新对准时的第一电磁体以及第二电磁体的位置和姿态的位移量,根据位移量并通过调整机构对第一电磁体和第二电磁体的位置和姿态进行调整控制。
发明效果
根据本发明,由于预先将设置在高能射束照射系统线的上游侧的第一电磁体与设置于下游侧的第二电磁体的基准位置信息存储在存储部中,在重新对准时,基于存储在存储部中的基准位置信息来调整第一电磁体以及第二电磁体的位置和姿态,从而即使在因外界气温的季节变动、地壳变动等导致建筑物变形的情况下,也能容易地调整电磁体的位置和姿态等。
附图说明
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