[发明专利]眼科镜片处理系统有效

专利信息
申请号: 201480084283.0 申请日: 2014-12-23
公开(公告)号: CN107107496B 公开(公告)日: 2019-10-08
发明(设计)人: B·盖尔布;M·黑尔;M·麦尔德布拉斯 申请(专利权)人: 依视路国际公司
主分类号: B29D11/00 分类号: B29D11/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 魏子翔;牛南辉
地址: 法国沙*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 眼科镜片 规划系统 镜片 可用设备 最新结果 施加 处理系统 处理信息 测量 反馈 制定
【说明书】:

发明披露了一种眼科镜片处理规划系统,该眼科镜片处理规划系统接收:来自消费者镜片订单的镜片与眼科镜片处理信息、用于施加来自该消费者订单的一种或多种眼科镜片处理的可用设备的标识、以及该可用设备的性能和参数。该眼科镜片处理规划系统制定最佳眼科镜片处理计划,该最佳眼科镜片处理计划有待由用于向该镜片施加来自该消费者订单的该一种或多种眼科镜片处理的该可用设备实施。在向该镜片施加该最佳眼科镜片处理计划之后,可以测量所得镜片以便提供最新结果,并且这些最新结果可以被反馈给该眼科镜片处理规划系统从而向该眼科镜片处理规划系统提供该可用设备的进一步性能和参数。

技术领域

本发明总体上涉及眼科镜片处理的施加、更具体地涉及用于优化眼科镜片处理的选择和施加的系统及方法、并且确切地涉及通过考虑用于加工和处理镜片的设备和/或通过考虑之前处理的结果来优化眼科镜片处理计划的系统及方法。

背景技术

眼科镜片的处理可以包括但不必局限于:涂层、色彩、膜、偏振、光致变色特性、以及用于向镜片施加处理的其他技术。眼科镜片典型地使用批量过程来处理,因此限制了对施加于特定镜片或一副镜片上的处理的性能的优化。这样的批量过程典型地采用了对于此类处理的最佳可接受平均施加,由此给每个独立镜片或一副镜片最多地提供折中的镜片处理。

发明内容

本发明涉及提供以下不同实现方式的系统和方法:需要如在眼科镜片处理规划系统中接收来自消费者镜片订单的镜片与眼科镜片处理信息、接收用于施加来自该消费者订单的一种或多种眼科镜片处理的可用设备的标识、并接收该可用设备的性能和参数。因此,该眼科镜片处理规划系统制定最佳眼科镜片处理计划,该最佳眼科镜片处理计划有待由用于向该镜片施加来自该消费者订单的该一种或多种眼科镜片处理的该可用设备实施。根据本系统和方法的不同实施例,制定有待由该可用设备对该镜片实施的最佳眼科镜片处理计划可以进一步包括:通过采用能够采用该可用设备向该镜片施加的多种眼科镜片处理的可能组合,向该计划施加基于计算机的模型。在不同实施例中,制定最佳眼科镜片处理计划可以包括考虑给定镜片或一副镜片的、与该给定镜片或这副镜片的眼科镜片处理有关的多个方面,包括该可用设备以及该可用设备的性能和参数;并且针对该可用设备以及该可用设备的这些性能和参数来考虑并且优化该最佳眼科镜片处理计划。根据本系统和方法的一些实施例,该最佳眼科镜片处理计划可以包括使用批量过程来施加一些眼科镜片处理。

在向该镜片施加该最佳眼科镜片处理计划之后,可以测量所得镜片以便提供最新结果。这些最新结果可以被反馈给该眼科镜片处理规划系统,以便向该眼科镜片处理规划系统提供该可用设备的进一步性能和参数。这样的最新结果可以包括:镜片光谱性能的测量值,包括反射、透射和吸收特征;以及多个光谱参数;产品性能测试;外观检查;处理的附着力;耐擦伤性;耐磨性;和/或耐化学性。

根据本系统和方法的不同实施例,该一种或多种眼科镜片处理可以包括减反射涂层,并且制定最佳眼科镜片处理计划可以包括针对该可用设备以及该可用设备的这些性能和参数来优化减反射涂层厚度、施涂速率、缓变、浸泡、离子枪功率、气体流量、气体压力、电子束枪电压、分布掩模大小、分布掩模位置、镜片夹具和/或施涂过程。

该眼科镜片处理信息可以包括关于镜片涂层、镜片色彩、镜片膜、镜片偏振、镜片光致变色特性的信息,关于用于向该镜片施加处理的技术的信息,关于硬质多涂层镜片处理的信息和/或诸如此类。该可用设备的这些性能和参数可以包括:电子束枪的使用、沉积涂层所采用的任何溅射靶材、蒸发舟的使用、离子枪的使用、细丝的状况、该电子束枪或该离子枪内的特定部件的状况、防护罩的使用、防护罩的清洁度、分布掩模的使用、该可用设备采用的扇形几何形状、所得光学厚度的测量值、所得镜片的轴线取向、所得镜片的颜色、有待使用的涂层材料的使用期限、工具加工状况、有待使用的化学品的使用期限、有待使用的化学品的状况、染浴的使用期限、染浴温度、和/或该可用设备的室内状况。

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