[其他]离子浓度降低装置、以及具备该装置的液体处理装置有效
申请号: | 201490000587.X | 申请日: | 2014-04-10 |
公开(公告)号: | CN205367831U | 公开(公告)日: | 2016-07-06 |
发明(设计)人: | 棚桥正治;登祥子;中野贵德;棚桥正和 | 申请(专利权)人: | 棚氏处理有限公司 |
主分类号: | C02F1/48 | 分类号: | C02F1/48 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 洪秀川 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 浓度 降低 装置 以及 具备 液体 处理 | ||
1.一种离子浓度降低装置,其降低保持于系统中的水性液体的离子浓度,其特征在于,
所述离子浓度降低装置包括至少一个离子吸附部,
所述离子吸附部包括液体路径、以及配置在所述液体路径内的多个电极对,
所述液体路径包括流入口与流出口,所述流入口和流出口与所述系统连接,以便形成包括所述液体路径与所述系统的循环路,
所述电极对包括第一电极与第二电极,
所述第一电极包括含有活性炭的第一导电性物质,
所述第二电极包括含有活性炭的第二导电性物质,
所述第一电极以及第二电极分别面对供所述水性液体流通的空隙。
2.根据权利要求1所述的离子浓度降低装置,其特征在于,
所述电极对还包括配置在所述第一电极与所述第二电极之间的隔板,
通过所述隔板形成所述空隙。
3.根据权利要求2所述的离子浓度降低装置,其特征在于,
在所述电极对中,所述第一电极与所述第二电极之间的间隔处于0.3~10mm的范围。
4.根据权利要求2所述的离子浓度降低装置,其特征在于,
所述隔板是开口率处于0.3~0.9的范围的网状的隔板。
5.根据权利要求2所述的离子浓度降低装置,其特征在于,
在所述电极对中,在所述第一电极的表面以及所述第二电极的表面上,分别通过所述隔板的空隙而形成有呈条纹状配置的多个流路。
6.根据权利要求1所述的离子浓度降低装置,其特征在于,
所述多个电极对包括支承所述第一导电性物质以及第二导电性物质的导电性片。
7.根据权利要求6所述的离子浓度降低装置,其特征在于,
在所述导电性片的端部上连接有绝缘性片,
所述绝缘性片与所述第一导电性物质以及第二导电性物质相比进一步向所述水性液体的液流的上游侧伸出。
8.根据权利要求1所述的离子浓度降低装置,其特征在于,
通过串联连接所述多个电极对而构成一个电极组,
仅存在于所述电极组的两端的两个电极与电源连接。
9.根据权利要求1所述的离子浓度降低装置,其特征在于,
所述第一导电性物质中所包含的活性炭的质量处于所述第二导电性物质中所包含的活性炭的质量的1.5~3倍的范围。
10.一种液体处理装置,其特征在于,
具备保持水性液体的系统、以及降低所述水性液体的离子浓度的权利要求1至9中任一项所述的离子浓度降低装置。
11.根据权利要求10所述的液体处理装置,其特征在于,
所述系统包括冷却塔。
12.根据权利要求10所述的液体处理装置,其特征在于,
所述系统包括贮水槽,
所述离子浓度降低装置与所述贮水槽连接,
在所述贮水槽上形成有所述水性液体的流入口以及流出口,
在所述水性液体经由所述流入口以及所述流出口而在所述贮水槽中流通的期间,通过所述离子浓度降低装置来降低所述水性液体的离子浓度。
13.根据权利要求10所述的液体处理装置,其特征在于,
所述装置还包括调节从所述水性液体的pH值以及游离氯浓度中选出的至少一者的水质的水质调节装置,
所述水质调节装置包括供所述水性液体流通的槽、以及配置在所述槽内的两个电极,
所述两个电极包括进行电解的电极、以及吸附离子的离子吸附电极。
14.根据权利要求10所述的液体处理装置,其特征在于,
所述装置还包括调节在流路中流通的所述水性液体的游离氯浓度的游离氯浓度调节装置,
所述游离氯浓度调节装置具备:
容器,其配置所述水性液体;
隔离物,其将所述容器分隔为第一槽与第二槽;
第三电极,其配置在所述第一槽中;以及
第四电极,其配置在所述第二槽中,
在所述第二槽上形成有流入口与流出口,所述流入口和流出口与所述流路连接,以使得所述第二槽构成所述流路的一部分,
所述第一槽内的空间经由所述隔离物与所述流路连接。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于棚氏处理有限公司,未经棚氏处理有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201490000587.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。