[发明专利]与金属基涂层稳定结合的陶瓷基体的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510000308.0 申请日: 2014-01-10
公开(公告)号: CN104628367A 公开(公告)日: 2015-05-20
发明(设计)人: 曹小松 申请(专利权)人: 曹小松
主分类号: C04B35/14 分类号: C04B35/14;C04B35/622;C04B41/89;C04B41/85
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 330000 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 金属 涂层 稳定 结合 陶瓷 基体 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种与金属基涂层稳定结合的陶瓷基体的制备方法,其特征在于,在所述陶瓷基体中,按占陶瓷基体重量百分比计,氧化锌1%~3%、碳酸锂0.1~2%、氧化镁7%~8%、氧化钡3%~5%,锂辉石提供4%~5%的氧化锂,锂辉石、石英以及高岭土共提供25%~32%的氧化铝、含量是氧化镁4.68倍的氧化硅、含量是氧化镁1.2倍的氧化钙,硼、钾、钠合计小于3%。

2.根据权利要求1所述的陶瓷基体的制备方法,其特征在于,这种陶瓷基体由氧化铝30%~32%、氧化锂4~4.5%、氧化硅33%~34%、氧化钙8%~9%、氧化锌1%、氧化镁7%~7.5%、氧化钡5%、碳酸锂2%、分散剂0.01~0.5%、增塑剂1%,余量的氧化硼、氧化钾和氧化钠组成。

3.根据权利要求1所述的陶瓷基体的制备方法,其特征在于,氧化硼的含量为0.1%~2%。

4.根据权利要求1所述的陶瓷基体的制备方法,其特征在于,氧化镁为7.21%。

5.根据权利要求1所述的陶瓷基体的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

按陶瓷基体的配方配置锂辉石、石英以及高岭土的混合原料,选择性絮凝,控制硼、钾、钠合计小于3%,沉淀后制成坯料;

按陶瓷基体的配方在坯料中加入氧化锌、氧化镁、氧化钡以及碳酸锂,制成陶瓷坯件;

陶瓷坯件置于800℃~900℃中预烧2小时,陶瓷坯件置于1300℃~1500℃中预烧8小时,在2小时内逐渐降低至常温,制成陶瓷基体。

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