[发明专利]X射线图像中的标志识别和处理有效

专利信息
申请号: 201510004942.1 申请日: 2010-08-26
公开(公告)号: CN104598909B 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 大卫·谢伯克 申请(专利权)人: 登塔尔图像科技公司
主分类号: G06K9/46 分类号: G06K9/46;G06T7/00;G06T11/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 夏东栋;陆锦华
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 标志识别 患者运动 投影图像 标志点 检测和定位 检测标志 解剖结构 头部测量 运动修正 扫描器 校准 质量控制 检测 外部 评估
【权利要求书】:

1.一种用于识别图像中的标志关联点的方法,该方法由包括扫描器、带有电子处理单元的计算机、和存储有可由所述电子处理单元执行的标志点识别模块的存储器模块的成像系统执行,该方法包括:

在所述计算机处,基于由所述扫描器产生的图像数据获得图像;

利用所述电子处理单元,对所述图像应用具有X射线补偿的二维高通滤波器以抑制背景,从而生成背景抑制后的图像;以及

利用所述电子处理单元,从所述背景抑制后的图像中提取标志关联点,

其中,应用所述二维高通滤波器包括对所述图像顺序地应用两个或更多个一维高通滤波器,所述两个或更多个一维高通滤波器中的各个是在不同的二维方向上对所述图像执行的。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,应用各个一维高通滤波器包括组合下列各项中的至少一项:

所述图像的一维低通滤波后的表示与所述图像,以及

来自所述一维高通滤波器的较早应用的临时图像的一维低通滤波后的表示与所述临时图像。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述图像的所述一维低通滤波后的表示通过应用累积均值滤波来生成,所述滤波包括:

使用所述电子处理单元,从所述图像生成累积图像,其中所述累积图像中的各个像素表示在所述滤波器方向上从该像素向下直至第一像素的、来自所述图像的所有像素值的累积和;

利用所述电子处理单元,将所述累积图像以滤波因子移位,以生成移位后的图像;

利用所述电子处理单元,将所述移位后的图像减去所述累积图像,以生成差值图像;

利用所述电子处理单元,将所述差值图像除以所述滤波因子。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,将所述图像与所述图像的所述一维低通滤波后的表示组合考虑了X射线的非线性衰减,并且包括将所述图像逐个像素地除以所述图像的所述一维低通滤波后的表示。

5.根据权利要求4所述的方法,其中,逐个像素的除法使用所述图像的所述一维低通滤波后的表示的像素作为被除数来进行。

6.根据权利要求2所述的方法,其中,将所述图像与所述图像的所述一维低通滤波后的表示组合包括减法。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,从所述背景抑制后的图像中提取所述标志关联点包括在所述背景抑制后的图像中定义局部极大值。

8.根据权利要求7所述的方法,其中,在所述背景抑制后的图像中定义所述局部极大值包括在所述背景抑制后的图像中识别像素,其中所述像素的所有八个相邻像素都具有比所述像素的像素值小的像素值。

9.根据权利要求7所述的方法,其中,从所述背景抑制后的图像中提取所述标志关联点进一步包括基于所述局部极大值来生长候选区域。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,从所述背景抑制后的图像中提取所述标志关联点进一步包括对每个候选区域应用形状标准。

11.根据权利要求10所述的方法,其中,对每个候选区域应用所述形状标准包括确定每个候选区域的像素面积和由相应候选区域的平均半径的平方乘以π所定义的面积之比。

12.一种成像系统,包括扫描器、带有电子处理单元的计算机、和存储有可由所述电子处理单元执行的标志点识别模块的存储器模块,其中,所述标志点识别模块当执行时被配置为:

在所述计算机处,基于由所述扫描器产生的图像数据获得图像;

对所述图像应用具有X射线补偿的二维高通滤波器以抑制背景,从而生成背景抑制后的图像;以及

从所述背景抑制后的图像中提取标志关联点,

其中所述标志点识别模块当执行时进一步被配置为:通过对所述图像顺序地应用两个或更多个一维高通滤波器来应用所述二维高通滤波器,所述两个或更多个一维高通滤波器的各个是在不同的二维方向上对所述图像执行的。

13.根据权利要求12所述的成像系统,其中,所述标志点识别模块当执行时进一步被配置为通过在所述背景抑制后的图像中定义局部极大值来从所述背景抑制后的图像中提取所述标志关联点,其中定义所述局部极大值包括在所述背景抑制后的图像中识别像素,其中所述像素的所有八个相邻像素都具有比所述像素的像素值小的像素值。

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