[发明专利]一种防松垫圈的制作方法及防松垫圈

权利要求书

1.一种防松垫圈的制作方法，其特征在于：包括以下步骤：1)制备具有如下齿牙结构、不锈钢材质的防松垫圈：小齿牙横截面的长边与短边夹角为80～110°，小齿牙的深度为0.1～0.3毫米，小齿牙横截面的长边与垫圈基平面的夹角为5～10°；大齿牙横截面的长边与防松垫圈基平面的夹角A比配套使用的螺栓或螺母的螺纹升角B大0.1°～1°；2)对所述防松垫圈的表面进行处理，去除表面的钝化层；3)对步骤2)处理后的防松垫圈进行低温渗碳、低温渗氮或低温氮碳共渗处理，在表面形成硬化层；4)清洗，最终制得防松垫圈。

2.根据权利要求1所述的防松垫圈的制作方法，其特征在于：所述步骤1)中通过金属注射成形工艺制备所述防松垫圈：11)准备注射成形模具，所述模具包括空腔和浇口，所述空腔的形状对应所述防松垫圈的结构形状；12)注射成形：从所述浇口注入成形喂料至所述空腔中，在所述空腔中形成具有所述齿牙结构的防松垫圈主体结构；13)经脱脂、烧结、去浇口处理后，制得所述防松垫圈。

3.根据权利要求1所述的防松垫圈的制作方法，其特征在于：所述步骤1)中，所述大齿牙的深度为0.1～0.3毫米。

4.根据权利要求1所述的防松垫圈的制作方法，其特征在于：所述步骤3)中，所述低温渗碳、低温渗氮、低温氮碳共渗分别为低温离子渗碳、低温离子渗氮、低温离子氮碳共渗工艺：在处理设备的真空室内通入混合气体，气压控制在50～500Pa，在处理设备的阴极和阳极之间加500～1000V的直流电压或脉冲电压产生等离子体，从而对所述防松垫圈进行表面硬化处理，在表面形成硬化层；其中，低温离子渗碳时，所述混合气体包含氢气和含碳气体；低温离子渗氮时，所述混合气体包含氢气和含氮气体；低温离子氮碳共渗时，所述混合气体包含氢气、含氮气体和含碳气体。

5.根据权利要求4所述的防松垫圈的制作方法，其特征在于：所述步骤3)中，低温离子渗碳时，通入的混合气体中，按照流量比，所述氢气：所述含碳气体＝(80～99％)：(20～1％)。

6.根据权利要求1所述的防松垫圈的制作方法，其特征在于：所述步骤3)中，控制低温渗碳、低温渗氮或低温氮碳共渗处理时的温度在400～550℃，处理时间为5～60小时。

7.根据权利要求1所述的防松垫圈的制作方法，其特征在于：所述步骤3)中，所述硬化层的厚度为8～40微米。

8.一种防松垫圈，所述防松垫圈的材质为不锈钢，包括大齿牙和小齿牙，其特征在于：所述小齿牙横截面的长边与短边夹角为80～110°，小齿牙的深度为0.1～0.3毫米，小齿牙横截面的长边与垫圈基平面的夹角为5～10°；所述大齿牙横截面的长边与防松垫圈基平面的夹角A比配套使用的螺栓或螺母的螺纹升角B大0.1°～1°；所述防松垫圈的表面具有一层经低温渗碳、低温渗氮或低温氮碳共渗工艺处理形成的硬化层。

9.根据权利要求8所述的防松垫圈，其特征在于：所述大齿牙的深度为0.1～0.3毫米。

10.根据权利要求8所述的防松垫圈，其特征在于：所述硬化层的厚度为8～40微米。