[发明专利]超薄反应腔

权利要求书

1.超薄反应腔，用于激光气相化学沉积修补，其特征在于：包括基座，所述基座上穿设有反应孔，所述反应孔的孔内上侧设有用于盖住所述反应孔且透明的窗口片，下侧设有喷嘴部件，所述喷嘴部件穿设有反应气喷口，所述喷嘴部件的上表面可拆卸连接有反应气分配环，所述反应气分配环的内孔与所述反应气喷口相对、可供激光束穿过；所述反应气分配环开设有一与所述反应气喷口相通的环形气道，所述基座上设有一与所述环形气道相通的反应气进气道，所述基座下表面上于所述反应孔的外周设有一呈环状的反应气收集嘴，所述基座上还设有一与所述反应气收集嘴及外界相通的反应气出气道，所述基座下表面上于所述反应气收集嘴的外周设有一呈环状、用于抽离空气以使反应气被真空隔离的真空抽气嘴，所述基座上还设有一与所述真空抽气嘴相通的真空抽气道；所述反应气分配环上设有多个周向分布、与所述环形气道相通的凹槽，所述凹槽的大小沿反应气流动的方向逐渐变大；所述反应气分配环还设有与所述凹槽相通且露于所述反应气分配环的锥状部的外表面的第二环形气道；

所述反应气喷口的形状呈锥状，所述反应气分配环的内孔设有与所述反应气喷口形状相适、中空呈锥状的圆台，所述圆台贴设于所述反应气喷口中，所述圆台的外表面与所述反应气喷口的内表面之间相互平行。

2.如权利要求1所述的超薄反应腔，其特征在于：所述基座上设有一静压空气进气道，所述基座下表面上于所述真空抽气嘴的外周设有一呈环状、与所述静压空气进气道相通的静压空气节流嘴。

3.如权利要求1所述的超薄反应腔，其特征在于：所述窗口片的厚度小于或等于3.0mm。

4.如权利要求1所述的超薄反应腔，其特征在于：所述基座于所述窗口片下方设有一往所述窗口片下表面输送保护气以避免反应气于所述窗口片下表面上沉积的保护气进气道及保护气出气道。

5.如权利要求1所述的超薄反应腔，其特征在于：所述反应孔为阶梯孔，所述阶梯孔包括上级台阶及位于所述上级台阶下方的下级台阶，所述喷嘴部件搭接于所述下级台阶上，所述窗口片搭接于所述上级台阶上。

6.如权利要求1所述的超薄反应腔，其特征在于：所述基座上表面覆盖有产生热量以保证反应气反应温度的加热薄膜。

7.如权利要求6所述的超薄反应腔，其特征在于：所述加热薄膜与所述窗口片之间设有用于防止反应气泄漏的垫圈。

8.如权利要求1～7任一项所述的超薄反应腔，其特征在于：所述超薄反应腔的总厚度小于或等于9.0mm。