[发明专利]一种清洁装置和清洁方法

权利要求书

1.一种清洁装置，用于对残留在显示基板表面的有机液态残留物进行清除，其特征在于，包括分解单元、雾化单元、剥离单元和收集单元；

所述分解单元用于改变所述有机液态残留物的分子结构，以减小所述有机液态残留物在所述显示基板上的附着力；

所述雾化单元用于使经所述分解单元处理后的所述有机液态残留物与所述显示基板表面分离；

所述剥离单元用于将经所述雾化单元处理后的所述有机液态残留物从所述显示基板表面剥离；

所述收集单元用于收集所述剥离单元剥离下来的所述有机液态残留物。

2.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述分解单元采用极紫外光源，所述极紫外光源用于向所述有机液态残留物发射极紫外光线，所述极紫外光线能使所述有机液态残留物的分子链分解。

3.根据权利要求2所述的清洁装置，其特征在于，所述极紫外光源发射的所述极紫外光线的波长范围为10-40nm。

4.根据权利要求3所述的清洁装置，其特征在于，所述极紫外光源包括多个，多个所述极紫外光源呈矩阵排布或均匀排布在圆形区域内。

5.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述雾化单元采用超声雾化器或静电雾化器；

所述超声雾化器用于向所述有机液态残留物发送超声波，以使所述有机液态残留物在超声波的振动作用下与所述显示基板表面分离；

所述静电雾化器用于使所述显示基板表面和所述有机液态残留物带上相同极性的静电电荷，以使所述有机液态残留物在静电排斥作用下与所述显示基板表面分离。

6.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，所述剥离单元采用螺旋分离器，所述螺旋分离器包括螺杆、套设在所述螺杆外的腔室以及电机，所述腔室具有入口和出口，所述入口和所述出口分别对应所述螺杆的两端；

所述入口用于面向所述有机液态残留物设置，所述电机用于带动所述螺杆绕其轴线旋转，以使所述腔室内的气流从所述入口向所述出口流动并使所述腔室内形成负压，所述螺旋分离器能在所述腔室负压的作用下将所述有机液态残留物从所述入口吸入，并从所述出口排出。

7.根据权利要求6所述的清洁装置，其特征在于，所述螺旋分离器包括多个，多个所述螺旋分离器呈阵列排布或均匀排布在圆形区域内。

8.根据权利要求7所述的清洁装置，其特征在于，所述收集单元采用透明收集箱，所述透明收集箱与所述出口通过管道连接，从所述出口排出的所述有机液态残留物能通过所述管道进入所述透明收集箱内。

9.根据权利要求8所述的清洁装置，其特征在于，所述透明收集箱可拆卸，或者，所述透明收集箱与所述有机液态残留物的排泄管道连接，所述透明收集箱中收集的所述有机液态残留物能通过所述排泄管道排泄出去。

10.根据权利要求1所述的清洁装置，其特征在于，还包括控制单元和带动机构，所述带动机构与所述分解单元、所述雾化单元和所述剥离单元分别连接，用于带动所述分解单元、所述雾化单元和所述剥离单元沿所述显示基板的表面移动；

所述控制单元用于根据所述有机液态残留物在所述显示基板上的位置控制所述带动机构先后带动所述分解单元、所述雾化单元和所述剥离单元移动至所述有机液态残留物的正上方，并在所述分解单元、所述雾化单元和所述剥离单元对所述有机液态残留物处理完毕后，控制所述带动机构将所述分解单元、所述雾化单元和所述剥离单元分别带离所述有机液态残留物的正上方。

11.一种清洁方法，对残留在显示基板表面的有机液态残留物进行清除，其特征在于，包括：

步骤S1：改变所述有机液态残留物的分子结构，以减小所述有机液态残留物在所述显示基板上的附着力；

步骤S2：将完成步骤S1的所述有机液态残留物与所述显示基板表面分离；

步骤S3：将完成步骤S2的所述有机液态残留物从所述显示基板表面剥离；

步骤S4：收集步骤S3中从所述显示基板表面剥离下来的所述有机液态残留物。