[发明专利]光学层析装置

权利要求书

1.一种光学测量装置，其特征在于，包括：

出射激光的光源；

使所述激光分束为第一信号光和第一参考光的光分束单元；

使所述第一信号光会聚照射在测量对象上的物镜；

使所述第一信号光的会聚位置扫描的会聚位置扫描单元；

干涉光学系统，使所述第一信号光与所述第一参考光合束，生成所述第一信号光与所述第一参考光的干涉相位彼此相差90度的整数倍的干涉光；

电流差动式的光检测器，检测所述第一信号光与所述第一参考光的干涉相位彼此相差180度的干涉光的对；和

信号处理部，从由所述光检测器检测所述干涉相位彼此相差180度的干涉光的对而得到的光轴方向的位置z处的检测信号I(z)、Q(z)中，分别减去各自包括的来自所述测量对象的特定部位的反射信号成分，之后实施平方和运算而生成图像化信号。

2.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：

所述物镜的数值孔径为0.4以上。

3.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：

所述信号处理部进行以下运算处理：

sig(z)＝[I(z)-I₀(z)]²+[Q(z)-Q₀(z)]²，

其中，sig(z)是图像化信号，I₀(z)、Q₀(z)是表面反射信号成分。

4.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：

所述反射信号成分使用预先测定的存在像差的情况下的点扩散函数生成。

5.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：

还包括出射与所述激光不同波长的光的第二光源、调整所述第一参考光的相位的相位调整单元和控制所述相位调整单元的控制部，

从所述第二光源出射的光被所述光分束单元分束为第二信号光和第二参考光，所述第二信号光和所述第二参考光在分别通过与所述第一信号光和所述第一参考光相同的光路之后被合束，

所述控制部控制所述相位调整单元，使得由所述第二信号光与所述第二参考光合束而生成的干涉光的强度大致一定。

6.如权利要求5所述的光学测量装置，其特征在于：

所述第二光源是低相干光源。

7.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：

所述特定部位存在多个，

所述反射信号成分是所述多个部位的反射信号成分的总和。

8.如权利要求1所述的光学测量装置，其特征在于：

所述反射信号成分使用拟合函数进行了优化。