[发明专利]转换透镜及其制备方法、二维-三维显示基板及显示装置在审
申请号: | 201510020893.0 | 申请日: | 2012-11-21 |
公开(公告)号: | CN104516168A | 公开(公告)日: | 2015-04-15 |
发明(设计)人: | 姚星 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/29 | 分类号: | G02F1/29;G02F1/1343;G02B27/22;H04N13/305 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 转换 透镜 及其 制备 方法 二维 三维 显示 显示装置 | ||
本发明的实施例提供了一种转换透镜及其制备方法、二维‑三维显示面基板及显示装置及其制备方法,涉及显示领域,能够降低驱动功率。所述转换透镜用于对显示图像进行二维‑三维转换,包括:至少一金属电极;所述金属电极设置为:所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应。本发明可用于显示设备中。
本申请是中国专利申请No.201210475857.X的分案申请,原申请的申请日为2012.11.21,申请号为201210475857.X,发明创造名称为转换透镜及其制备方法、二维-三维显示基板及显示装置。
技术领域
本发明涉及显示领域,尤其涉及一种转换透镜及其制备方法、二维-三维图像显示基板和显示装置。
背景技术
液晶透镜3D显示基板技术通过在普通的二维图像显示基板上设置转换透镜(Switch Cell),实现3D显示。对于液晶透镜3D显示基板的这种结构,为了避免遮挡像素,转换透镜中的电极需选用透明材料ITO(Indium Tin Oxide,氧化铟锡)。然而,由透明材料制成的透明电极ITO的电阻率很大,造成了整个显示基板的阻抗很大,进而所需要的驱动功率增大。在制备大尺寸的显示基板时,这种弊端尤其凸显。
发明内容
本发明的实施例的主要目的在于,提供一种转换透镜及其制备方法、二维-三维图像显示基板和显示装置,能够降低驱动功率。
为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
一种转换透镜,用于对显示图像进行二维-三维转换,所述转换透镜包括:
至少一金属电极;
所述金属电极设置为:所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应。
可选的,所述金属电极的位置与所述显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,是:沿观看方向,所述金属电极在所述显示基板上的投影区域不超过所述黑矩阵在所述显示基板上所占的区域,所述观看方向与所述显示基板的夹角为80-90度。
进一步可选的,所述金属电极的位置与所述显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,是:所述金属电极在所述显示基板上的正投影区域与所述黑矩阵在所述显示基板上所占的区域重合。
进一步可选的,所述转换透镜包括公共电极基板和转换基板,所述金属电极设置在所述转换基板上。
本发明实施例还提供了一种二维-三维图像显示基板,包括前述任一项转换透镜,以及二维图像显示基板。
进一步可选的,从观看方向看,所述转换透镜设置在所述二维图像显示基板之后。
进一步可选的,所述金属电极设置在所述转换透镜的远离所述二维图像显示基板的一侧上。
本发明实施例还提供了一种显示装置,包括上述任一项二维-三维图像显示基板。
本发明实施例还提供了一种转换透镜的制备方法,所述转换透镜用于对显示图像进行二维-三维转换,所述方法包括:
在衬底基板上形成至少一金属电极,使得所述金属电极的位置与显示所述显示图像的显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应。
进一步可选的,在所述在衬底基板上形成至少一金属电极的步骤中,使得所述金属电极的位置与所述显示基板上的黑矩阵所占区域的至少一部分相对应,是:沿观看方向,所述金属电极在所述显示基板上的投影区域不超过所述黑矩阵在所述显示基板上所占的区域,所述观看方向与所述显示基板的夹角为80-90度。
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