[发明专利]一种基于透射电子显微镜观察激光诱导晶化纳米薄膜截面晶粒特征的样品制备方法有效
| 申请号： | 201510024548.4 | 申请日： | 2015-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN104596818B | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 朱赞;刘富荣;杨继峰 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N23/04 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司11203 | 代理人： | 刘萍 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 透射 电子显微镜 观察 激光 诱导 纳米 薄膜 截面 晶粒 特征 样品 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于透射电子显微镜观察激光诱导晶化纳米薄膜截面晶粒特征的样品制备方法，其步骤包括：
(1)运用磁控溅射手段，在基底上镀一层相变薄膜材料；
(2)取(1)中制备的材料2片，使相变薄膜材料层相对贴合并固定；
(3)将重合的两片材料剪断一部分，用两块板状材料夹住固定，使相变薄膜材料层断面处在两块板状材料边缘的缝隙之中；
(4)使其断面正对光源进行单脉冲辐照；
(5)将薄膜断面经过上述辐照的基底平放在透射电子显微镜下进行观察，其断面边缘的晶化深度即为所要观察的截面形貌。
2.按照权利要求1的方法，其特征在于，相变薄膜材料是锗锑碲三元合金相变材料，Ge15Sb85或Sb70Te30。
3.按照权利要求1的方法，其特征在于，基底材料是直径为3毫米的铜网上一层碳支持膜。
4.按照权利要求1的方法，其特征在于，磁控溅射所镀相变薄膜材料的厚度是20-100纳米。
5.按照权利要求1的方法，其特征在于，板状材料是表面光滑的玻璃块，亚克力板或金属块。
6.按照权利要求1的方法，其特征在于，光源是波长低于1064纳米，单脉冲输出的激光器。
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