[发明专利]耐蚀刻光阻组合物有效
| 申请号： | 201510026569.X | 申请日： | 2015-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN104804644B | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | 林佑忠;罗云山 | 申请（专利权）人： | 达兴材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09D193/04 | 分类号： | C09D193/04;C09D161/06;C09D7/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人： | 秦剑 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
1.一种耐蚀刻光阻组合物，包含：
碱可溶树脂，选自于松香树脂、经改质松香树脂、酚醛树脂或前述的一组合；以及
一或多数个分散于该碱可溶树脂中的无机材料，其中，每一无机材料具有片状外型、≤ 2的莫氏硬度及0.5至2μm的一次颗粒尺寸范围，其中，该无机材料的团聚体是分散至1至10μm的细度范围。
2.如权利要求1所述的耐蚀刻光阻组合物，其中，该片状外型为多边形片状、扁平棒状或圆盘状。
3.如权利要求1所述的耐蚀刻光阻组合物，其中，以该碱可溶树脂的总重为100重量份计算，该无机材料的用量范围为10至150重量份。
4.如权利要求3所述的耐蚀刻光阻组合物，其中，以该碱可溶树脂的总重为100重量份计算，该无机材料的用量范围为30至100重量份。
5.如权利要求1所述的耐蚀刻光阻组合物，其中，该无机材料是选自于滑石、石膏、石墨、石墨烯或前述的一组合。
6.如权利要求5所述的耐蚀刻光阻组合物，其中，该无机材料是滑石。
7.如权利要求1所述的耐蚀刻光阻组合物，更包含至少一添加剂，该添加剂是选自于分散剂、消泡剂或流变助剂。
8.如权利要求7所述的耐蚀刻光阻组合物，其中，以该碱可溶树脂的总重为100重量份计算，该添加剂的用量范围为1至20重量份。
9.如权利要求1所述的耐蚀刻光阻组合物，是用于保护含硅基材。
10.如权利要求9所述的耐蚀刻光阻组合物，其中，该含硅基材是选自于氧化硅基材、氮化硅基材、单晶硅基材或多晶硅基材。
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