[发明专利]一种顶底共用地下结构及其分建施工方法

权利要求书

1.一种顶底共用地下结构，包括上层结构、下层结构及设置在上下层间供两层结构共用的隔板，其特征在于：所述上层结构与下层结构正交设置，所述上层结构为曲墙拱形结构，底部为平底式；所述下层结构为分离式双跨矩形框架结构，所述上层结构两侧边墙墙脚与隔板间对应设有暗梁，所述隔板与下层矩形框架结构间通过钢筋紧固。

2.根据权利要求1所述的顶底共用地下结构，其特征在于：所述上层结构与下层结构上对应设置有上层变形缝及下层变形缝。

3.一种适用于权利要求1-2任一项所述的顶底共用地下结构的分建施工方法，其特征在于：首先以双侧壁导坑法对上层结构进行开挖，上层结构分成左导坑、中导坑及右导坑，施工步骤为：

1)左导坑上台阶①开挖→左导坑上台阶初期支护Ⅰ→左导坑中台阶②开挖→左导坑中台阶初期支护Ⅱ→左导坑下台阶③开挖→左导坑下台阶初期支护Ⅲ；

2)右导坑上台阶④开挖→右导坑上台阶初期支护Ⅳ→右导坑中台阶⑤开挖→右导坑中台阶初期支护Ⅴ→右导坑下台阶⑥开挖→右导坑下台阶初期支护Ⅵ；

3)中导坑上台阶⑦开挖→中导坑上台阶初期支护Ⅶ→中导坑中台阶⑧开挖→中导坑下台阶⑨开挖；

4)在底部区域Ⅷ处依次铺设隔离层及垫层并压实；

5)在隔离层及垫层上方区域Ⅸ处进行隔板施工；

6)曲墙二次衬砌Ⅹ；

后期对下层结构进行施工，下层结构包括左线及右线，其中左线及右线均分为左导坑、中导坑及右导坑，施工步骤为：

7)左线先行开挖；

i)左导坑⑩开挖→左导坑临时钢架a、b支护→右导坑开挖→右导坑临时钢架c、d

支护→结构侧墙Ⅺ及底板Ⅻ混凝土浇筑；

ii)中导坑开挖→结构底板ⅩⅢ混凝土浇筑闭合；

iii)拆除临时钢架a、b、c、d支护；

8)待左线结构完成并达到设计强度后再开挖右线，重复步骤i)、ii)与iii)。

4.根据权利要求3所述的顶底共用地下结构的分建施工方法，其特征在于：所述步骤1)与2)中，左导坑下台阶初期支护Ⅲ及右导坑下台阶初期支护Ⅵ通过锁脚锚杆固定。

5.根据权利要求3所述的顶底共用地下结构的分建施工方法，其特征在于：所述步骤5)中，在左导坑下台阶初期支护Ⅲ及右导坑下台阶初期支护Ⅵ与隔板间设置纵向暗梁。

6.根据权利要求3所述的顶底共用地下结构的分建施工方法，其特征在于：所述步骤5)中隔板施工时，在左线及右线结构侧墙位置处预留钢筋及钢筋接驳器。